[发明专利]一种实现高亮度水平远场单瓣分布的光子晶体激光器阵列有效

专利信息
申请号: 201310242803.3 申请日: 2013-06-19
公开(公告)号: CN103326244A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 郑婉华;刘磊;张建心;渠红伟 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/40 分类号: H01S5/40
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 亮度 水平 单瓣 分布 光子 晶体 激光器 阵列
【权利要求书】:

1.一种光子晶体激光器阵列,其特征在于,

包括两组交替排列的波导:第一波导(201)和第二波导(202),沿该第一波导(201)和第二波导(202)的传播方向分为三个部分:模式耦合区(203)、光子晶体区(204)和发射区(205),其中,

所述模式耦合区(203)用于产生阵列中相邻波导之间相互耦合的激光模式,并通过模式之间的竞争来输出稳定的反相模式;

所述光子晶体区(204)用于通过折射率的周期性变化,对所述模式耦合区(203)中输出的反相模式进行相位调制,使其在相邻波导之间的相位差从180°降低至90°以内,从而将反相模式转换成同相位分布的模式;

所述发射区(205)用于将所述光子晶体区(204)中输出的同相位分布的模式从激光器腔面稳定输出,产生一个单瓣远场图案。

2.根据权利要求1所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述激光器阵列具有叠层结构,所述叠层结构包括:

下电极(101);

形成于该下电极之上的N型衬底(102);

形成于该N型衬底之上的N型限制层(103);

形成于该N型限制层之上的有源层(104);

形成于该有源层之上的P型限制层(105);

形成于该P型限制层之上的P型盖层(106);

形成于该P型盖层之上的SiO2绝缘层(107);以及

形成于该SiO2绝缘层之上的上电极(108),其中,

所述第一波导(201)和第二波导(202)是由刻蚀P型盖层(106)的整个厚度和P型限制层(105)的部分厚度形成。

3.根据权利要求2所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述有源层(104)采用的材料为III-V族半导体材料或II-VI族半导体材料,增益谱峰值波长范围覆盖近紫外到红外波段。

4.根据权利要求2所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述模式耦合区(203)的波导通过刻蚀或腐蚀所述SiO2绝缘层(107)形成电极窗口(203a)。

5.根据权利要求1所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述模式耦合区(203)的长度超过光子晶体区(204)长度的两倍。

6.根据权利要求1所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述第一波导(201)在模式耦合区(203)、光子晶体区(204)和发射区(205)内为均一宽度的第一条形波导;所述第二波导(202)在模式耦合区(203)和发射区(205)内为均一宽度的第二条形波导(202a),在光子晶体区(204)内则包含两个锥形波导(202b)和一个第三条形波导(202c)。

7.根据权利要求6所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述第二条形波导(202a)的宽度与第一条形波导(201)的宽度相同,比第三条形波导(202c)的宽度大,且通过锥形波导(202b)和第三条形波导(202c)相连。

8.根据权利要求6所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述锥形波导(202b)的长度不超过光子晶体区(204)长度的十分之一。

9.根据权利要求6所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述第三条形波导(202c)的长度L由如下公式决定:L=Δψ·λ/(2π·Δn),其中Δψ为通过光子晶体区(204)的调制在第一波导(201)和第二波导(202)的光场之间产生的相移,Δn为在光子晶体区(204)内,第一波导(201)和第二波导(202)中传播的光场之间的有效折射率差。

10.根据权利要求9所述的光子晶体激光器阵列,其特征在于,所述相移Δψ的范围在(mπ-π/2)~mπ之间,其中m为奇数。

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