[发明专利]提升氧化铝镀膜设备产能的装置无效
| 申请号： | 201310239151.8 | 申请日： | 2013-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN103305813A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 孟津;孙海平;张辉;赵晨;夏正月;张斌;邢国强 | 申请（专利权）人： | 奥特斯维能源（太仓）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/40 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 夏雪 |
| 地址： | 215434 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提升 氧化铝 镀膜 设备 产能 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种提升氧化铝镀膜设备产能的装置，包括反应腔、多路进气管和一路排气管，所述多路进气管和一路排气管分别与反应腔相连，其特征在于：还包括气体储罐，所述气体储罐连接反应腔。
2.根据权利要求1所述提升氧化铝镀膜设备产能的装置，其特征在于：所述气体储罐中储存的气体与氧化铝反应的产物为气体。
3.根据权利要求1所述提升氧化铝镀膜设备产能的装置，其特征在于：所述气体储罐为存储HCL的气体储罐，所述HCL通入反应腔。
4.根据权利要求1所述提升氧化铝镀膜设备产能的装置，其特征在于：所述反应腔的形状为球形或方形。
5.根据权利要求1所述提升氧化铝镀膜设备产能的装置，其特征在于：所述反应腔内的温度为100-1000℃。
6.根据权利要求5所述提升氧化铝镀膜设备产能的装置，其特征在于：所述反应腔内的温度为180-500℃。
7.根据权利要求5所述提升氧化铝镀膜设备产能的装置，其特征在于：所述反应腔内的温度为200℃。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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