[发明专利]一种气化炉工艺烧嘴结构

权利要求书

1.一种气化炉工艺烧嘴结构，包括烧嘴本体，所述本体上由内至外依次设有多个原料通道和冷却水腔，其特征在于所述烧嘴的前端面上设有与所述烧嘴的前端面相适配的耐火度大于等于1770℃的隔热层，该隔热层与所述烧嘴的前端面相平行，所述的隔热层通过多个间隔设置的渣钉连接所述烧嘴的前端面。

2.根据权利要求1所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述的隔热层采用氧化铝、氧化镁或碳化硅制备而成。

3.根据权利要求1或2所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述渣钉选用高温合金N06600、N06230或N06002，通过折弯、冲压或焊接的方法制备而成。

4.根据权利要求3所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述渣钉为“Y”型，渣钉的一字端连接所述烧嘴的前端面，所述渣钉的枝丫端埋设在所述的隔热层内。

5.根据权利要求4所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述隔热层和所述烧嘴的前端面之间还设有与所述烧嘴前端面相适配的遮热环，该遮热环采用高温合金N06600、N06230或N06002制备而成，所述遮热环与所述烧嘴的前端面和所述隔热层之间均具有间隙；所述遮热环通过多根间隔设置的连接凸柱焊接在所述烧嘴的前端面上；所述渣钉连接在所述遮热环上。

6.根据权利要求5所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述遮热环的厚度为所述烧嘴的前端面厚度的0.5-5mm，所述隔热层的厚度为所述烧嘴的前端面厚度的2-20mm。

7.根据权利要求6所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述遮热环与所述隔热层的通孔的大小与外圈原料通道的直径匹配。

8.根据权利要求7所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述遮热环与所述烧嘴前端面之间的间距为0.5-5mm。

9.根据权利要求8所述的气化炉工艺烧嘴结构，其特征在于所述隔热层与所述遮热环之间的间距为0.5-5mm。