[发明专利]真空覆膜设备和方法

权利要求书

1.一种真空覆膜方法，所述真空覆膜方法通过真空覆膜设备进行，所述真空覆膜设备包括分别具有开口的第一腔室和第二腔室；其特征在于，所述真空覆膜方法包括以下步骤：

设置步骤：设置装饰膜，并将待覆膜工件设于第二腔室中；其中，装饰膜包括胶粘层，所述胶粘层朝向第二腔室；

对合步骤：使第一腔室的开口与第二腔室的开口对合在装饰膜同一位置的两侧；

加热步骤：加热装饰膜；

抽真空步骤：对第二腔室抽真空，将装饰膜吸附在工件表面。

2.根据权利要求1所述的真空覆膜方法，其特征在于，所述加热装饰膜包括：

使用设于第一腔室内的加热单元加热装饰膜，所述第一腔室内还设有用于将加热单元发出的热辐射反射向装饰膜的反射单元。

3.根据权利要求1所述的真空覆膜方法，其特征在于，

所述加热的温度大于等于100摄氏度且小于等于150摄氏度；

所述加热的时间大于等于3秒且小于等于20秒。

4.根据权利要求1所述的真空覆膜方法，其特征在于，在所述抽真空步骤之后，还包括：

加压步骤：对第一腔室进行加压。

5.根据权利要求4所述的真空覆膜方法，其特征在于，

所述对第一腔室进行加压的压力大于等于0.1MPa且小于等于0.3MPa，加压的时间大于等于2秒且小于等于10秒。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的真空覆膜方法，其特征在于，

所述装饰膜的胶粘层中设有导气沟槽。

7.根据权利要求1至5中任意一项所述的真空覆膜方法，其特征在于，所述设置装饰膜包括：

将装饰膜夹持固定在保持件上，所述保持件与装饰膜的胶粘层接触的面由防粘材料制成。

8.根据权利要求1至5中任意一项所述的真空覆膜方法，其特征在于，所述将待覆膜工件设于第二腔室中包括：

所述待覆膜工件固定在位于第二腔室内的固定件上。

9.根据权利要求1至5中任意一项所述的真空覆膜方法，其特征在于，

所述设置装饰膜包括：水平设置所述装饰膜；

所述使第一腔室的开口与第二腔室的开口对合在装饰膜同一位置的两侧包括：使第一腔室的开口对合在装饰膜的上侧，使第二腔室的开口对合在装饰膜同一位置的下侧。

10.一种真空覆膜设备，包括：

具有开口的第一腔室；

具有开口的第二腔室，所述第二腔室的开口能与第一腔室的开口对合；

用于对装饰膜进行加热的加热单元；

气路连接所述第二腔室的真空单元。

11.根据权利要求10所述的真空覆膜设备，其特征在于，所述第一腔室内还设有：

用于将加热单元发出的热辐射反射向装饰膜的反射单元。

12.根据权利要求11所述的真空覆膜设备，其特征在于，

所述加热单元设于所述第一腔室内部的顶面上，所述顶面与第一腔室的开口相对；

所述反射单元设于所述第一腔室内部的侧面上，所述侧面连接在所述顶面与开口之间。

13.根据权利要求10所述的真空覆膜设备，其特征在于，还包括：

用于对第一腔室进行加压的加压单元。

14.根据权利要求10至13中任意一项所述的真空覆膜设备，其特征在于，还包括：

设于所述第二腔室中的，用于固定待覆膜工件的固定件。

15.根据权利要求10至13中任意一项所述的真空覆膜设备，其特征在于，还包括：

用于将装饰膜夹持固定在第一腔室的开口与第二腔室的开口之间的保持件，所述保持件与装饰膜胶粘层接触的面由防粘材料制成。

16.根据权利要求15所述的真空覆膜设备，其特征在于，

所述防粘材料为特氟龙涂层。

17.根据权利要求10至13中任意一项所述的真空覆膜设备，其特征在于，还包括：

用于驱动所述第一腔室和/或第二腔室进行运动的驱动单元。