[发明专利]一种带宽可控的光纤光栅刻写方法及装置

权利要求书

1.一种带宽可控的光纤光栅刻写方法，其特征在于，该方法包括：

对光纤进行载氢处理，并去除其涂覆层；

对激光发射器发射的预定波长的激光光束进行整形处理，并根据整形后激光数据调节去除涂覆层后的该光纤的曝光区域；

将整形处理的激光聚焦后经过相位掩膜板，对该光纤的曝光区域进行刻写，获得光纤光栅。

2.根据权利要求1所述的刻写方法，其特征在于，所述光纤进行载氢处理包括：

将光纤置于预定气压与温度的载氢池中，使该光纤中形成氢-锗化学键。

3.根据权利要求1所述的刻写方法，其特征在于，所述对激光发射器发射的预定波长的激光光束进行整形处理，并根据整形后的激光数据调节去除涂覆层后的该光纤的曝光区域的步骤包括：

利用设置于转动台中的光束分析仪对该激光发射器发射的预定波长的激光数据进行采集与分析，并将分析结果发送至计算机；

将该转动台旋转90°后，由该转动台中的微电机调谐光阑接收经过该光束分析仪的激光；并从计算机中读取所述发射激光数据的分析结果，且根据该结果对接收到的激光光束进行整形；

根据整形后的激光数据控制所述转动台下方的电位移台调节所述光纤的曝光区域。

4.根据权利要求3所述的刻写方法，其特征在于，所述激光发射器发射的激光经过表面镀膜的99%高反射镜后垂直射入所述光束分析仪中；所述反射镜与该激光发射器发射方向呈45°夹角。

5.根据权利要求1所述的刻写方法，其特征在于，所述对该光纤的曝光区域进行刻写，获得光纤光栅包括：

在所述去除涂覆层后的光钎两端分别设置宽带光源与光谱仪，对刻写过程实时检测，获得所需带宽的光纤光栅。

6.一种带宽可控的光纤光栅刻写装置，其特征在于，该装置包括：激光发射器（213）、光束整形模块（208）、柱面透镜（207）、反射镜（212）与相位掩膜板（206）；

其中，所述激光发射器（213）用于发射预定波长的激光；

所述光束整形模块（208），用于对激光发射器（213）发射的预定波长的激光光束进行整形处理，并根据整形后的激光的特点调节去除涂覆层后的光纤的曝光区域；

所述柱面透镜（207），用于对整形处理的激光进行聚焦处理；

所述反射镜（212），用于改变激光光路及对激光光路进行微调

所述相位掩膜板（206），用于利用聚焦处理后的激光对该光纤的曝光区域进行刻写。

7.根据权利要求6所述的刻写装置，其特征在于，所述光束整形模块（208）包括：光束分析仪（216）、微电机调谐光阑（217）、转动台（210）与电位移台（211）；

其中，所述转动台置于所述电位移台（211）上；所述光束分析仪（216）与微电机调谐光阑（217）顺次置于所述转动台（210）中；

所述光束分析仪（216），用于对该激光发射器（213）发射的预定波长的激光数据进行采集与分析，并将分析结果发送至计算机（215）；

所述微电机调谐光阑（217），用于将转动台（210）旋转90°后，接收经过该光束分析仪（216）的激光；并从计算机（215）中读取所述发射激光数据的分析结果，且根据该结果对激光光束进行整形；

所述电位移台（211），用于根据整形后的激光数据调节所述光纤的曝光区域。

8.根据权利要求7所述的刻写装置，其特征在于，所述反射镜（212）与激光发射器发射方向呈45°夹角，置于该激光发射器（213）与光束分析仪（216）之间；且该反射镜为表面镀膜的99%高反射镜。

9.根据权利要求6所述的刻写装置，其特征在于，该装置还包括：分别设置于去除涂覆层后的光纤两端的宽带光源（201）与光谱仪（205）；用于刻写过程实时检测，获得所需带宽的光纤光栅。

10.根据权利要求6-9任一项所述的刻写装置，其特征在于，所述光纤为双包层单模光纤或标准单模光纤，平行设置于相位掩膜板（206）的下方；且该光纤去除涂覆层区域（204）的长度大于所述相位掩膜板（206）的长度。