[发明专利]一种超声波清洗剂及一种超声波清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及表面清洁技术领域，具体涉及一种超声波清洗剂及一种超声波清洗方法。

背景技术

电子产品的外壳在注塑成型后，其表面通常因带有静电而沾染灰尘、油污等成分复杂的污垢，须将上述污垢清洗后方能对外壳进行表面处理等后续的工序。随着电子产品的小型化和多功能化的发展，电子产品外壳的结构也愈加复杂，通常具有大量的细小孔隙，为清洗工作带来困难。为实现彻底清除外壳表面污垢的目的，现有的做法是使用药剂喷洗外壳，除去大部分的污垢后再将外壳浸泡在药水中进行超声波清洗，从而将细小孔隙内的顽固污垢去除。现有的超声波清洗剂存在对污垢的作用单一、对水质的硬度敏感、毒性大、难降解等缺点，不能满足实际生产的需求。同时，现有的超声波清洗方法也难以彻底清除附着在外壳表面细微孔隙内的污垢。

发明内容

有鉴于此，本发明公开一种能有效清除电子产品外壳表面各种污垢、易降解的超声波清洗机。

本发明的第二个目的是提供一种能有效清除电子产品外壳表面细微孔隙内污垢的超声波清洗方法。

本发明的第一个目的通过以下技术方案实现：一种超声波清洗剂，包括以下重量份的成分：

十二烷基苯磺酸钠                      6-10份；

十二烷基苯磺酸钙                     20-50份；

十二烷基二甲基苄基氯化铵              8-10份；

硬脂酸镁                              10-15份；

十六烷基三甲基氯化铵                 5-10份；

EDTA二钠                             7-16份；

聚丙烯酰胺                             1.5-7.5份；

NaOH                                   10-20份；

NH₃.H₂O                                 0.1-0.5份；

NH₄Cl                                   10-15份；

有机溶剂                                15-20份；

所述有机溶剂为选自乙醇、乙醚、石油醚、四氯甲烷中的任一种。

上述成分中，十二烷基苯磺酸钠、十二烷基苯磺酸钙、十二烷基二甲基苄基氯化铵、硬脂酸镁、N、N－双羟乙基十二烷基酰胺、EDTA二钠、聚丙烯酰胺、NaOH 、NH₃.H₂O 、NH₄Cl 、有机溶剂均可采用市售产品实现。

十二烷基苯磺酸钠、十二烷基苯磺酸钙、十二烷基二甲基苄基氯化铵均为常见的阴离子型表面活性剂，可有效去除物体表面的油污。但电子产品外壳大多采用人工树脂制成，其表面带有大量的负电荷，因此通常认为采用上述三种阴离子型表面活性剂难以对之进行有效清洗。本发明人在研究中发现，在本发明中同时引入十六烷基三甲基氯化铵，可有效消除注塑成型后的工件表面所带的负电荷，一方面降低外壳表面对灰尘等污垢的吸附力，一方面能够增强十二烷基苯磺酸钠、十二烷基苯磺酸钙、十二烷基二甲基苄基氯化铵的除污效果，从而降低本发明超声波清洗剂的用量，达到节能的目的。所述十六烷基三甲基氯化铵是一种阳离子型表面活性剂，具有较高的毒性。因此本发明对其用量进行了严格的优化，在满足消除静电、促进其他表面活性剂作用的同时，最大限度地降低其用量以防止其残留在工件，危害人身健康和环境安全。

上述成分中，硬脂酸镁能够促进本发明的超声波清洗剂在使用时的乳化，使污垢特别是油污形成悬浮液被除去。

上述成分中，NaOH能够使本发明的超声波清洗剂的pH呈弱碱性，以促进上述各表面活性剂去除污垢。

上述成分中，NH₃.H₂O和NH₄Cl共同构成一缓冲对，能够维持超声波清洗剂在储存、使用过程中pH值的稳定，延长超声波清洗剂的保质期。

上述成分中，EDTA二钠、聚丙烯酰胺为络合剂，能够有效降低稀释用水的硬度，从而降低本发明超声波清洗剂对水质硬度的敏感性。