[发明专利]反射式镜面面型控制装置有效
| 申请号: | 201310226580.1 | 申请日: | 2013-06-07 |
| 公开(公告)号: | CN103293662B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
| 发明(设计)人: | 黄磊;巩马理;闫平;柳强;薛峤;冯泽心;康少男;闫海波 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | G02B26/06 | 分类号: | G02B26/06 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 张大威 |
| 地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 反射 面面 控制 装置 | ||
1.一种反射式镜面面型控制装置,其特征在于,包括:
至少一个镜片,所述镜片在接受作用力而产生形变,形变后的面形对照射在其上的光束的波前阵面有整形作用;
底座,所述底座与所述镜片相连,用于接受加热/制冷单元的能量变化而产生形变,并将形变作用在所述镜片上;
至少一个所述加热/制冷单元,所述加热/制冷单元与所述底座相连,用于为所述底座的形变提供温度条件;
至少一个温度探测器,所述温度探测器与所述底座相连,用于探测经加热/制冷单元传到在底座上发生的温度变化值,以便进行控制调节。
2.如权利要求1所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述镜片与所述底座之间为直接相连,或者通过镜柱间接相连。
3.如权利要求1所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述加热/制冷单元均匀分布或非均匀分布地安装在所述底座的内部或表面。
4.如权利要求1所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述温度探测器均匀分布或非均匀分布地安装在所述底座的内部或表面。
5.如权利要求1所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述镜片的厚度等于或大于或小于所述底座的厚度。
6.如权利要求1所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述底座中具有开槽,所述开槽用于改变所述底座的可形变调整区域。
7.如权利要求1所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述镜片包括多个子镜片叠加而成,和/或,所述底座包括多个子底座叠加而成。
8.如权利要求1-7所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述镜片和所述底座的线胀系数不同。
9.如权利要求8所述的反射式镜面面型控制装置,其特征在于,所述镜片的材料为石英或玻璃。
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