[发明专利]一种曝气位置可调的氧化槽

权利要求书

1. 一种曝气位置可调的氧化槽，包括上端开口的中空筒体和垂直设于所述筒体内的两端开口的导流筒，所述筒体和导流筒间留有间隙，所述间隙中填充填料，所述导流筒中还设置有曝气装置，其特征在于：所述曝气装置包括压缩空气管和与所述压缩空气管相连通的曝气头，所述曝气装置还包括至少两个沿垂直方向分布的盘状支架，所述盘状支架上设置若干所述曝气头；所述导流筒筒壁设有轴向排列的多组调节结构，每组调节结构包括周向分布的至少两个调节孔，所述盘状支架通过螺钉固定于导流筒的所述一组调节结构上。

2. 根据权利要求1所述的一种曝气位置可调的氧化槽，其特征在于：所述每组调节结构包括周向分布的四个调节孔。

3. 根据权利要求2所述的一种曝气位置可调的氧化槽，其特征在于：所述盘状支架的周向设有四个分别径向突出的固定条，盘状支架的固定条通过所述螺钉与对应调节孔相连。

4. 根据权利要求1-3任一项所述的一种曝气位置可调的氧化槽，其特征在于：所述曝气装置包括两个沿垂直方向分布的盘状支架，设置在所述盘状支架上的曝气头环形分布。

5. 根据权利要求4所述的一种曝气位置可调的氧化槽，其特征在于：所述两个盘状支架上设有相同数量的所述曝气头，两个盘状支架上的对应曝气头周向错位分布。

6. 根据权利要求5所述的一种曝气位置可调的氧化槽，其特征在于：所述盘状支架上的曝气头分布呈圆环状，一个所述盘状支架上曝气头分布形成的所述圆环与另一个所述盘状支架上曝气头分布形成的圆环半径相等。

7. 根据权利要求6所述的一种曝气位置可调的氧化槽，其特征在于：所述的两个盘状支架中，每个盘状支架的中部设有一个所述曝气头，外周环形设置有六个所述曝气头。