[发明专利]具有人员进入装置的容器

说明书

本申请是申请日为2008年11月26日、申请号为200810189329.1、发明名称为“具有人员进入装置的容器”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及用于存储和运送特殊产品及其他材料(如，高纯度(HP)和超高纯度(UHP)流体)的罐或容器。

背景技术

电子工业中所使用技术的新发展和提高导致对愈加大量特殊材料(如，用于制造过程中的HP和和UHP流体)的需求。特殊材料是用于制造过程(如，电子元件的制造)中的化学制品，其显示出某些特点，如高纯度或超高纯度。例如，特殊材料可以是粉末、乳剂、悬浮液和蒸汽。此处所使用的术语“流体”是指包括气体、液体、升华的固体和其组合。

用于相应的生产设备的不同加工和处理的特殊材料可能需要传送测得的杂质在ppb水平的产品。即使特殊气体和化学制品可能仅占生产费用的大约百分之0.01到大约百分之0.1，但是缺乏所述材料可能危及(例如)在电子生产设施中保持希望或需要的生产量的能力。有时，在制造过程中使用污染的产品可能危及最终产品的规格。最终产品的规格可在制造过程的非常最后阶段加以确定。例如，在晶片生产的情况中，最终产品的规格可能在产品质量保证程序中进行检查。所生产的晶片可能被认为“越出规格范围外”并且可能被丢弃，其可能引起数百万美元的损失。因此，在运送期间保持特殊材料的纯度具有真正的重要性。

用于存储HP或UHP流体或其他特殊材料的容器的污染物可能特征在于当向容器中注入所述特殊材料时存在会损害特殊材料的预定纯度水平的物质，或者在将高纯度产品在容器中输送和/或存储期间杂质渗入到了容器中。

污染物可以采取固体、液体和气体的形式。例如，污染物可以是由以前保存在容器中的另一种材料的残渣形成的。污染物还可以由于容器漏气，通过，例如，外界空气渗入到容器内部容积中而引入。更特别的是，通过环境的空气渗入而进入的氧气就电子制造中的HP和UHP流体及所使用的其他特殊材料而论通常被认为是污染物。氧气可以在容器的内表面上形成污染的氧化物。此外，氧气分子可以被捕捉在容器的内表面上，并且可以扩散到随后被放入容器中的HP或UHP流体或者其他特殊材料中。当HP或UHP流体滞留在容器中时，由于与HP或UHP流体存在浓度梯度，氧气分子可以被拽离容器的内表面，并且被传送到生产设备中，不利地影响最终产品的规格。

表征为特殊材料污染物的物质视应用而定，并且可以随着如特殊材料的特定类型、特殊材料的产品规格和特殊材料的预计用途等因素而变化。因此，在一种应用中被认为是污染物的物质可能在另一种应用中不被认为是污染物。例如，氧气、碳氢化合物、金属微粒、水和氮气被认为是超临界二氧化碳(SCCO₂)的污染物。然而，氮气不被认为是如NH₃、NF₃和Cl₂的电子学等级气体的污染物。

有时，用于传送少量HP和UHP材料的旧的传送方法可能不再适用。例如，由于需要相当大量的所述材料，所以使用圆筒形瓶子或其他小包装的传送可能在某些制造过程中不再合意。例如，对超高纯度“White Ammonia”(NH₃)和高纯度的三氟化氮(NF₃)的需求在近年来已经显著增加了，并且如今在许多不同制造过程中需要大量的所述材料。

用于传送HP和UHP材料的大量(bulk)传送容器和系统在近年来并未为人所知或加以利用。仅新技术(例如，用于生产不同电子器件的技术)的最新发展已导致了对HP和UHP产品(如，NF₃、NH₃、C1₂、HCl及其他特殊气体和化学制品)的大量需求。在过去，如瓶形圆筒的小型罐用于传送相对少量的HP和UHP产品。虽然严格，但是对于制备小型罐的要求可以相对容易地满足。甚至，用于相对较小的罐和容器的罐制备过程是公知的，所述罐和容器用来输送HP和UHP产品。例如，简单罐在烘箱中的加热过程(被称为“烘焙”)有助于获得罐内表面所需要的纯度。准备好或所谓“纯度处理”过的罐可以接收UHP产品而没有污染UHP产品的威胁。被用于罐加热的“烘焙”烘箱可能具有不同的尺寸和形状，但是一般只限于相对较小的罐(如，气瓶)的制备。