[发明专利]一种介质熔炼中硅熔体的取样装置及其使用方法无效
| 申请号： | 201310222367.3 | 申请日： | 2013-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN103278351A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 谭毅;胡志刚;王登科;侯振海;张磊;李佳艳 | 申请（专利权）人： | 青岛隆盛晶硅科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/14 | 分类号： | G01N1/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266234 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 介质 熔炼 中硅熔体 取样 装置 及其 使用方法 | ||
1.一种介质熔炼中硅熔体的取样装置，其特征是：包括正负压发生器（2）和吸管（4）；正负压发生器（2）与吸管（4）相连通。
2.根据权利要求1所述的一种介质熔炼中硅熔体的取样装置，其特征是:所述的正负压发生器（2）与吸管（4）之间安装有密封圈（3）。
3.根据权利要求1中所述的一种介质熔炼中硅熔体的取样装置，其特征是:所述的吸管（4）为石英玻璃管。
4.根据权利要求1中所述的一种介质熔炼中硅熔体的取样装置，其特征是:所述吸管（4）的上端为外凸的圆柱体结构。
5.根据权利要求1中所述的一种介质熔炼中硅熔体的取样装置，其特征是:所述吸管（4）的上端为外凸的球体结构。
6.根据权利要求1所述的一种介质熔炼中硅熔体的取样装置的使用方法，其步骤是：
（1）将取样装置安装在带有滑块（1）的支架（6）上；
（2）控制正负压发生器（2），使吸管（4）下端产生正压强；
（3）控制滑块（1），下降取样装置，使吸管（4）下端逐渐插入到坩埚（6）熔体中，吸取硅液；
（4）控制正负压发生器（2），使吸管（4）下端产生负压强；
（5）硅液被存储到吸管（4）中，控制滑块，移出取样装置，将吸管（4）内样品导入测量瓶中，取样结束。
7.根据权利要求6所述的一种介质熔炼中硅熔体的取样装置的使用方法，其特征是:所述步骤（2）的正压强维持在0.6Pa～1.5Pa。
8.根据权利要求6所述的一种介质熔炼中硅熔体的取样装置的使用方法，其特征是:所述步骤（4）的负压强维持在-0.05Pa～-0.65Pa。
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