[发明专利]涂布装置和涂布方法

权利要求书

1.一种涂布装置，其特征在于，包括：

基台；

晶圆载物台组，用于装载晶圆，位于基台上，所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台，若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动；

对准检测单元，位于基台的第一位置上方，用于检测位于第一位置的晶圆载物台上的基准标记、以及该晶圆载物台上的晶圆上的对准标记，进行晶圆的对准；

掩模板载物台，位于基台上，用于装载圆筒形掩模板，使圆筒形掩模板水平放置，并使圆筒形掩模板绕圆筒形掩模板的中心轴旋转，所述圆筒形掩模板为中空的圆柱，圆筒形掩模板的表面包括位于中间的图像区域和位于图像区域两边的非图像区域，所述掩模板载物台包括第一悬臂和第二悬臂，第二悬臂的一侧固定有轴柄，第一悬臂为可移动悬臂；轴柄上具有第一轴承和第二轴承，第一轴承位于轴柄上靠近第二悬臂的一端，第二轴承位于轴柄上远离第二悬臂的另一端，第一轴承和第二轴承的轴承内圈固定于轴柄上；在装载之前，第一悬臂从与轴柄相卡合的一端脱离，圆筒形掩模板在传送手臂的传送下套在第一轴承和第二轴承的轴承外圈上，圆筒形掩模的非图像区域的内表面与第一轴承和第二轴承的轴承外圈相接触，圆筒形掩模在传送手臂的传送下套在第一轴承和第二轴承上之后，第一悬臂向轴柄方向移动，使第一悬臂的一端与轴柄的一端重新卡合，完成圆筒形掩模板的装载；

曝光光源，位于圆筒形掩膜板的中空区域，用于发射曝光光线照射圆筒形掩膜板的图像区域；

光学投影单元，位于掩膜板载物台和基台之间，将透过圆筒形掩膜板的图像区域的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区，其中，当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置，然后沿扫描方向的单方向扫描时，圆筒形掩膜板绕掩膜板载物台的中心轴旋转，透过圆筒形掩膜板的图像区域光投射到晶圆载物台上的晶圆上，对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光；

光刻胶喷头，用于从圆筒形掩模板的侧上方向圆筒形掩模板表面喷洒光刻胶；

夹持单元，位于掩模板载物台一侧，用于夹持辅助滚筒，使所述辅助滚筒水平放置，并使所述辅助滚筒绕辅助滚筒的中心轴旋转；

其中，当水平放置的辅助滚筒表面贴近水平放置的圆筒形掩模板表面，光刻胶喷头从侧上方向圆筒形掩模板表面喷洒光刻胶时，圆筒形掩模板绕中心轴旋转，同时辅助滚筒也绕中心轴旋转，辅助滚筒挤压圆筒形掩模板和辅助滚筒之间的光刻胶，使光刻胶涂覆于圆筒形掩模板表面。

2.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述辅助滚筒的表面为亲水表面，圆筒形掩模板的表面为斥水表面。

3.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述辅助滚筒的直径小于、大于或等于圆筒形掩模板的直径，辅助滚筒的长度等于圆筒形掩模板的长度。

4.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述辅助滚筒的材料为石英。

5.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，当水平放置的辅助滚筒表面贴近水平放置的圆筒形掩模板表面时，辅助滚筒表面与圆筒形掩模板表面的距离是50～5000纳米。

6.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还包括：辐射加热单元，所述辐射加热单元用于对辅助滚筒挤压前的光刻胶进行加热。

7.如权利要求6所述的涂布装置，其特征在于，所述辐射加热单元包括辐射光源，辐射光源为红外辐射光源。

8.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，辅助滚筒表面贴近圆筒形掩模板表面时，辅助滚筒的中轴线与圆筒形掩模板的中轴线相互平行，并且位于与基台平行的一个平面内。

9.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还包括：第一位置检测单元，用于检测辅助滚筒的中心轴位移信息和转动信息。

10.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还包括：第二位置检测单元，用于检测圆筒形掩模板的中心轴位移信息和转动信息。