[发明专利]一种触控面板及其制造方法

权利要求书

1.一种触控面板，被定义有一非可视区及一对应该非可视区的可视区，其特征在于，该触控面板包括：

一遮蔽层，设置于一基板的一侧，其中该遮蔽层的设置区域定义出该非可视区；

一感测电极层，与该遮蔽层位于该基板之同侧，其中至少部分的该感测电极层设置于该基板之表面且至少位于该可视区；

一第一保护层，至少位于该可视区，并且至少覆盖该感测电极层；

一第二保护层，位于该非可视区，并且至少覆盖该遮蔽层；以及

一信号传送层，设置于该遮蔽层与该第二保护层之间，并且电性连接该感测电极层，其中该第二保护层覆盖该信号传送层的侧壁；

其中该第一保护层包括:

一第一折射率层,覆盖于该感测电极层上方且位于该基板上方,该第一折射率层之折射率小于该感测电极层之折射率；以及

一第二折射率层,设置于该第一折射率层上方且位于该基板上方,该第二折射率层之折射率大于该感测电极层之折射率。

2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一保护层为一折射率补偿层，该第二保护层为一附着层。

3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，该折射率补偿层为金属氧化物、非金属氧化物、硅基材料或其混合物。

4.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，该折射率补偿层由一二氧化硅层及一五氧化二铌层复合而成。

5.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，该二氧化硅层的厚度为30nm至50nm，该五氧化二铌层的厚度为5nm至10nm。

6.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，该折射率补偿层的折射率大于或等于该感测电极层的折射率。

7.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，该附着层为有机材料。

8.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该有机材料为聚酰亚胺材料、油墨材料、醇类材料或其混合物。

9.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该遮蔽层为一聚酰亚胺层或一油墨层。

10.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一保护层进一步延伸位于该非可视区，并且形成于该第二保护层之表面。

11.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该感测电极层进一步延伸位于该非可视区，并且形成于该遮蔽层的上表面或下表面。

12.一种触控面板的制造方法，其中该触控面板被定义有一非可视区及一对应该非可视区的可视区，其特征在于，该触控面板的制造方法的步骤包括：

形成一遮蔽层于一基板的一侧，其中该遮蔽层的形成区域定义出该非可视区；

形成一与该遮蔽层位于该基板同侧的感测电极层，其中至少部分的该感测电极层形成于该基板之表面且至少位于该可视区；

至少于该可视区内形成一第一保护层来至少覆盖于该感测电极层上；以及

形成一信号传送层于遮蔽层之表面，用以电性连接该感测电极层；

于该非可视区内形成一第二保护层来至少覆盖于该遮蔽层上，其中该第二保护层覆盖该信号传送层的侧壁；

其中该第一保护层包括:

一第一折射率层,覆盖于该感测电极层上方且位于该基板上方,该第一折射率层之折射率小于该感测电极层之折射率；以及

一第二折射率层,设置于该第一折射率层上方且位于该基板上方,该第二折射率层之折射率大于该感测电极层之折射率。

13.根据权利要求12所述的触控面板的制造方法，其特征在于，该第一保护层为一折射率补偿层，该第二保护层为一附着层。

14.根据权利要求12所述的触控面板的制造方法，其特征在于，该第一保护层进一步延伸位于该非可视区，并且形成于该第二保护层之表面。

15.根据权利要求12所述的触控面板的制造方法，其特征在于，该感测电极层进一步延伸位于该非可视区，并且该感测电极层是形成于该遮蔽层之前，在该非可视区中是位于该遮蔽层的下表面。

16.根据权利要求12所述的触控面板的制造方法，其特征在于，该感测电极层进一步延伸位于该非可视区，并且该感测电极层是形成于该遮蔽层之后，在该非可视区中是位于该遮蔽层的上表面。