[发明专利]一种双面显示面板及其制造方法有效
申请号: | 201310215618.5 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN103293793A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 谷新 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1347 | 分类号: | G02F1/1347;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双面 显示 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一种双面显示面板,包括相对设置的阵列基板和封装基板,所述阵列基板与所述封装基板之间具有显示结构,所述显示结构具有多组矩阵形式排列的显示单元,其特征在于,还包括:
位于所述阵列基板的第一透明基板和第一电极层之间的第一反射透射层;和/或,
位于所述封装基板的第二透明基板和第二电极层之间的第二反射透射层;
所述反射透射层包括间隔设置的反射区域和透射区域。
2.根据权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述反射透射层的反射区域和所述反射透射层的透射区域分别对应多组所述显示单元。
3.根据权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述第二反射透射层的反射区域与所述第一反射透射层的透射区域相对应;所述第二反射透射层的透射区域与所述第一反射透射层的反射区域相对应。
4.根据权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述显示结构包括电致发光层。
5.根据权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述显示结构包括电致变色层以及光源。
6.根据权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述显示结构包括液晶显示面板;
所述液晶显示面板包括:光源和形成于所述阵列基板与封装基板之间的第一液晶层;
所述阵列基板的另一侧还具有第一偏光膜层,所述封装基板的另一侧还具有第二偏光膜层。
7.根据权利要求1-6任一所述的双面显示面板,其特征在于,所述反射区域或透射区域包括:
第一控制电极、第二控制电极以及位于所述第一控制电极与所述第二控制电极之间的第二液晶层;
所述第一控制电极位于所述第二液晶层与所述透明基板之间,所述第二控制电极位于所述第二液晶层与所述电极层之间。
8.根据权利要求1-6任一所述的双面显示面板,其特征在于,所述反射区域还包括反射金属层,制作所述反射金属层的材料包括:铝、镁、镍、铜、氧化铝中的至少一种或几种混合。
9.根据权利要求1-6任一所述的双面显示面板,其特征在于,当所述反射透射层的透射区域为透明导电材料时,所述反射透射层的透射区域与所述电极层为一体结构。
10.根据权利要求1-6任一所述的双面显示面板,其特征在于,所述反射区域或所述透射区域的厚度为50~200nm。
11.一种双面显示面板的制造方法,所述显示面板包括阵列基板和封装基板,所述阵列基板与所述封装基板之间具有显示结构,所述显示结构具有多组矩阵形式排列的显示单元,其特征在于,制作所述阵列基板的步骤包括:
在第一透明基板表面形成间隔设置的反射区域的图案;
在形成有所述反射区域图案的所述第一透明基板的表面形成与所述反射区域相邻的透射区域的图案,从而形成第一反射透射层;
在所述第一反射透射层的表面形成第一电极层;
和/或,制作所述封装基板的步骤包括:
在第二透明基板表面形成间隔设置的反射区域的图案;
在形成有所述反射区域图案的所述第二透明基板的表面形成与所述反射区域相邻的透射区域的图案,从而形成第二反射透射层;
在所述第二反射透射层的表面形成第二电极层。
12.根据权利要求11所述的双面显示面板的制造方法,其特征在于,所述反射透射层的反射区域和所述反射透射层的透射区域分别对应多组所述显示单元。
13.根据权利要求11所述的双面显示面板的制造方法,其特征在于,所述第二反射透射层的反射区域与所述第一反射透射层的透射区域相对应;所述第二反射透射层的透射区域与所述第一反射透射层的反射区域相对应。
14.根据权利要求11-13所述的双面显示面板的制造方法,其特征在于,形成反射区域图案或透射区域图案的步骤包括:
在透明基板表面形成间隔设置的第一控制电极;
在所述第一控制电极的表面形成第二控制电极,所述第二控制电极与所述第一控制电极之间具有间隙;
在所述第一控制电极与所述第二控制电极之间注入液晶分子,形成第二液晶层。
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