[发明专利]一种降低荷电纳滤膜离子截留率的方法

权利要求书

1.一种降低荷电纳滤膜离子截留率的方法，其特征是：在多孔支撑膜上，用水/油两相界面聚合的方法复合一层分离层制备得到纳滤膜，在分离层反应后立刻用带亲水基团的反应性分子或其溶液对分离层上表面进行反应改性，得到改性纳滤膜，最后将改性纳滤膜中的未反应物漂洗干净；所述的水/油两相界面聚合的方法是先在多孔支撑膜上涂覆水相，待水渍基本晾干后再涂覆油相；所述的对分离层上表面进行反应改性是将刚刚反应完成的纳滤膜与带亲水基团的反应性分子或其溶液接触。

2.根据权利要求1所述的一种降低荷电纳滤膜离子截留率的方法，其特征在于，所述的油相为含酰氯基团分子的有机溶液，其中含酰氯基团分子的物质是均苯三甲酰氯、间苯二甲酰氯、对苯二甲酰氯、或5-异氰酸酯-异酞酰氯中一种或多种混合，溶剂为正己烷、十二烷、正庚烷、或Isopar^G；水相是多元胺或多元醇为单体的水溶液；界面聚合时含有酰氯基团分子的油相位于分离层的上表面。

3.根据权利要求1所述的一种降低荷电纳滤膜离子截留率的方法，其特征在于，所述的带亲水基团的反应性分子溶液中的反应性分子是乙醇胺、二乙醇胺、异丙醇胺、二异丙醇胺、3-氨基丙醇、二甘醇胺、或多醚胺；带亲水基团的反应性分子溶液中溶剂是水、丙酮、乙醇、甲醇、乙醇/水、甲醇/水、二甲基亚砜/水、N,N-二甲基甲酰胺/水、或N,N-二甲基乙酰胺/水；带亲水基团的反应性分子溶液中溶质质量浓度是1%～100%。

4.根据权利要求3所述的一种降低荷电纳滤膜离子截留率的方法，其特征在于，所述的带亲水基团的反应性分子溶液中的反应性分子为乙醇胺、二乙醇胺、或二甘醇胺；带亲水性基团溶液中溶剂是水；带亲水基团的反应性分子溶液中溶质质量浓度是15%～50%。

5.根据权利要求1所述的一种降低荷电纳滤膜离子截留率的方法，其特征在于，从分离层反应完成至表面反应改性的时间间隔小于2小时；接触的方式是浸泡、单面涂覆、流延、或喷淋；接触的时间大于10秒；表面反应改性的接触温度是-20～90℃。

6.根据权利要求5所述的一种降低荷电纳滤膜离子截留率的方法，其特征在于，从分离层反应完成至表面反应改性的时间间隔为30～120秒；接触的方式是单面涂覆；接触的时间是30～120秒；表面反应改性的接触温度是15～40℃。