[发明专利]一种面向芯片级器件的焊点制备方法及装置有效
| 申请号: | 201310210444.3 | 申请日: | 2013-05-31 |
| 公开(公告)号: | CN103325716A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
| 发明(设计)人: | 陈建魁;黄永安;尹周平;郭熙乾 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/60;B05B5/025 |
| 代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 面向 芯片级 器件 制备 方法 装置 | ||
1.一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其利用电流体喷印在器件表面制备出微米级焊点,其特征在于,该装置具体包括:
溶液容器(1),用于提供制备焊点的焊料溶液;
流量分配器(3),其上设置有阵列布置的多个喷嘴(101),其与所述溶液容器(1)连通,焊料溶液通过所述喷嘴(101)喷出;
器件固定板(6),其通过一底板(8)固定在喷嘴(101)下方,其上平铺有待制备焊点的器件,且该器件固定板(6)与所述喷嘴通过高压发生器(4)相连,使得在两者之间形成高压电场;
其特征在于,该装置中还包括管芯模(9),其包括呈阵列布置的多个管芯(102、105),且所述各管芯(102、105)一一对应配合插装在所述喷嘴(101)中,从而在各喷嘴(101)和管芯(102、105)之间的空隙内形成容纳焊料溶液的空间,在所述电场的作用下,焊料溶液通过该喷嘴(101)中的该空间进行流量分配后喷出形成喷点或喷丝,并滴落于器件表面,从而形成焊点。
2.根据权利要求1所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,所述各管芯(102、105)与对应的喷嘴(101)中心轴线重合或不重合,两者在径向上的相对位置可调,从而可调节各管芯(102、105)与对应的喷嘴(101)之间的空隙,作为流量分配路径,从而调整从喷嘴(101)喷出的喷丝速度和流量。
3.根据权利要求1或2所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,所述管芯为实心杆(102)或空心管(105),其位于喷嘴(101)喷口端的端部为尖状或圆角,管芯(102、105)在喷嘴内轴向可调,使得管芯(102、105)端部与喷嘴(101)喷口端部相对位置可变,从而使得喷出的溶液形成不同形状的焊点。
4.根据权利要求3所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,所述管芯(102、105)凸出于对应的喷嘴(101)喷口外或位于喷口内。
5.根据权利要求3或4所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,所述管芯(102、105)为空心管,其管体内可通入气体或注入另一种焊料溶液并可通过对应的喷嘴(101)喷出,从而形成空心焊点或形成由多种焊料形成的焊点。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,该装置还包括与器件固定板连接的振动发生器(7),其用于带动所述器件固定板(6)沿一定方向振动,以拉断喷丝形成焊点。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,所述装置还包括平板电极(11),其在喷印完成后设置在器件固定板(6)上方,从而在二者之间形成电场,以用于对喷印后的焊点进行拉形,并形成凸尖顶部。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,所述装置还包括设置在喷嘴上的CCD视觉系统(5),用于精密定位喷嘴与焊点位置。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的一种面向芯片级器件的焊点制备装置,其特征在于,所述装置还包括除静电装置(10),其用于去除待制备焊点的器件上的静电,以消除器件上静电对溶液喷射的影响。
10.一种应用上述面向芯片级器件的焊点制备装置进行焊点制备的方法,其包括:
溶液容器(1)内的溶液输送至各喷嘴,在电场的作用下,溶液从喷嘴(101)尖端经上述管芯模(9)进行流量分配后被拉出;
移动阵列布置的喷嘴(101)和管芯模(9),将溶液以喷点或丝的形式喷射在器件上的焊点位置;
通过振动发生器(7)拉断喷嘴喷出的喷丝,使喷丝或喷点在器件上形成一定高度的焊点。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





