[发明专利]一种具有双旋转机构的OLED镀膜机有效

专利信息
申请号: 201310209692.6 申请日: 2013-05-29
公开(公告)号: CN103243307A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 吕家东;陈宗烈;龚仕宏;何荣开 申请(专利权)人: 东南大学;江苏豪迈照明科技有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 张弛
地址: 210096*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 旋转 机构 oled 镀膜
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种OLED镀膜机,本发明尤其适合于制造具有较大尺寸的OLED。

背景技术

真空蒸镀是OLED(Organic Light-Emitting Diode,即有机发光二极管)器件制备过程的主要方法之一。OLED器件需要在高真空腔室中蒸镀多层有机薄膜,薄膜的质量关系到器件质量和寿命。有机材料的蒸镀目前还存在有效使用率低(<10%)、蒸镀层上掺杂物成分不均匀性、蒸镀层厚度不均匀、蒸镀速率不稳定、真空腔容易污染等等不足之处,从而导致样片基板的镀膜均匀度达不到器件要求。

现有镀膜机工件装夹旋转机构,无论是何种形式的设备,一般仅配置一只或三只旋转锅形支架,虽然均设置有锅形支架的“公转”和“自转”系统,来提高膜层厚度均匀性,但工件装夹数量受限是固有无法克服的缺陷,而且材料是自然蒸发飘散到真空室上部锅形支架上的工件,因此材料利用率较低。现有OLED镀膜材料大部分依赖进口,价格极其昂贵,显然传统镀膜机及其工艺技术已不适合于OLED镀膜。

因此,需要一种新的技术方案以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术存在的不足,提供一种镀膜材料利用率高的具有双旋转机构的OLED镀膜机。

为实现上述发明目的,本发明具有双旋转机构的OLED镀膜机可采用如下技术方案:

一种具有双旋转机构的OLED镀膜机,包括机架、真空室、多个钼舟、动力系统、钼舟通电加热系统、真空抽气系统、真空室加热系统以及仪表柜,仪表柜中包括双旋转机构转速指示和控制系统、真空抽气系统指示和控制系统、钼舟通电加热指示和控制系统、膜层厚度指示和控制系统、真空室温度指示和控制系统、总电源指示和控制系统;真空室内部配置有双旋转机构,所述双旋转机构由位于真空室内上部的旋转锅形支架和位于真空室中下部的旋转筒形支架组成,所述旋转锅形支架和旋转筒形支架均设置有用于固定被蒸镀工件的机构。

与现有技术相比,本发明本通过在OLED镀膜机真空室内设计工件双旋转机构支架,有效增加了旋转筒形支架框,充分扩大了工件装夹面积,大大增加一炉蒸镀的工件的数量;蒸发源在上述装夹机构优化设计的前提下,几乎完全被装满工件的上下两个工件旋转机构“罩”起来了,蒸发源蒸散出来的气体分子在这个大“罩子”内循环,增加了旋转支架上的工件表面碰撞的几率,提高有机材料的使用率。本发明技术对现有OLED镀膜机及镀膜工艺技术有如下几点明显改进:一是提高了膜层的合格率,比较试验约提高了15%左右;二是增加了一炉(车)的工件数量或工件总镀膜面积50~80%,尤其适合蒸镀超大面积的工件;三是镀膜材料利用率提高一倍以上。

根据本技术发明,与一般现有技术不同的是双旋转机构有两套工件支架:一套是位于真空室内上部的旋转锅形支架,可以根据产品需要采用单独一只大旋转锅形支架,也可以采用由三只同样尺寸的小锅形支架组成。当采用后一设计时不仅是三只小锅形支架连在一个“三臂”组成的支撑架上,每一条伸出的“臂”的末端连接一只小锅形支架,“三臂”另一端与一带中轴的法兰盘均等分用电焊焊接牢固。法兰盘中轴与真空室顶部的动力驱动系统连接,获得动力旋转,从而带动三只小锅形支架同步旋转,即工件支架的“公转”。在“三臂”上各自还设置有同一设计的传动小轴,小轴上的齿轮与法兰盘中轴上的齿轮啮合获得旋转动力,使得三只小锅形支架在“公转”同时产生“自转”;另一套是由位于沿真空室内周边设置的旋转筒支架组成。三臂末端向下延伸且与旋转筒支架牢固连接,即旋转筒形支架是悬挂在“三臂”组成的整个支撑架上,与三只小锅形支架同步旋转。所以,“双旋转机构”含意有三层:一是有两套旋转机构,即两套工件支架合二为一的共同旋转;二是指气体扰动系统既有“公转”也有“自转”;三是本申请优选采用三只小锅支架的方案,也是既有“公转”也有“自转”。

所述旋转锅形支架和旋转筒形支架无论何种设置均具有用于固定被蒸镀工件的机构,且方便工件的装卸。所述旋转锅形支架和旋转筒形支架相对位置的设置,即旋转锅形支架的下边沿(锅边)与旋转筒形支架的上边沿(筒上部周边)距离的大小与调整非常关键。基于兼顾工件装卸便捷和工件膜层均匀(给蒸镀材料加热时常突然蒸发太快造成瞬态气体分子浓度太高且不均匀的情况,出现这种情况旋转锅和旋转筒有一定相对距离,部分材料气体分子可通过此处空隙弥漫飘向真空室壁而驻留下来)两点原因,所以留有30~50mm的间隔距离。

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