[发明专利]工件传送装置、止动器装置及调节方法

权利要求书

1.一种工件传送装置，其用于传送工件，其特征在于，包括：

工件保持机构，所述工件保持机构被构造成操作以保持和释放所述工件；

致动器，所述致动器具有可移动构件，所述可移动构件被直接地或者间接地连接到所述工件保持机构，以便驱动所述工件保持机构；和

止动器装置，所述止动器装置具有阳构件和阴构件，其中

所述阳构件和所述阴构件中的一个具有第一平面和第二平面，该第二平面位于与该第一平面不同的平面，

所述阳构件和所述阴构件中的另一个具有接触面，该接触面选择性地与所述第一平面和所述第二平面接触，

所述阳构件和所述阴构件能够以彼此不同的第一配置和第二配置接合，

所述第一配置是所述第一平面和所述接触面接触的配置，

所述第二配置是所述第二平面和所述接触面接触的配置，

所述第一配置和所述第二配置限定与所述可移动构件连接的所述工件保持机构的至少两个预定的非连续的保持位置。

2.如权利要求1所述的工件传送装置，其特征在于，其中，

所述阳构件和所述阴构件中的至少一个限定止动器表面，通过所述工件保持机构或与所述工件保持机构连接的连接构件与所述止动器表面接触，从而所述工件保持机构的驱动被停止而限定所述工件保持机构的保持位置。

3.如权利要求1所述的工件传送装置，其特征在于，其中，

所述阳构件和所述阴构件中的一个具有螺栓，所述螺栓具有螺纹，所述阳构件和所述阴构件被构造成通过与具有所述螺纹的所述螺栓接合的螺母而以包含所述第一配置和所述第二配置的至少两种不同的配置彼此固定。

4.如权利要求1所述的工件传送装置，其特征在于，其中，

所述阳构件具有突出部，所述阴构件具有凹陷部，所述凹陷部形成为接收所述阳构件的所述突出部，并且所述阳构件和所述阴构件能够以所述阳构件的所述突出部由所述阴构件的所述凹陷部接收的配置和所述阳构件的所述突出部没有被所述阴构件的所述凹陷部接收的配置彼此接合，从而限定与所述致动器的所述可移动构件连接的所述工件保持机构的至少两个预定的非连续的保持位置。

5.如权利要求1所述的工件传送装置，其特征在于，其中，

所述致动器具有流体气缸和轴，所述轴的一端被连接到所述气缸，所述轴的另一端被直接地或者间接地连接到所述工件保持机构，并且所述轴被所述缸内的流体压力驱动。

6.如权利要求1所述的工件传送装置，其特征在于，其中，

所述工件是半导体晶片。

7.如权利要求1所述的工件传送装置，其特征在于，其中，

所述工件保持机构具有至少一对臂，所述一对臂被构造成能够打开和闭合以保持所述工件。

8.如权利要求7所述的工件传送装置，其特征在于，其中，

所述臂具有至少一个部件，所述至少一个部件被构造成保持工件。

9.一种止动器装置，其用于工件保持机构，并限定工件保持机构的至少两个预定的非连续的保持位置，其特征在于，包括：

阳构件；和

阴构件，

所述阳构件和所述阴构件中的一个具有第一平面和第二平面，该第二平面位于与该第一平面不同的平面，

所述阳构件和所述阴构件中的另一个具有接触面，该接触面选择性地与所述第一平面和所述第二平面接触，

所述阳构件和所述阴构件能够以彼此不同的第一配置和第二配置接合，

所述第一配置是所述第一平面和所述接触面接触的配置，

所述第二配置是所述第二平面和所述接触面接触的配置，

所述第一配置和所述第二配置限定所述工件保持机构的至少两个预定的非连续的保持位置。

10.如权利要求9所述的止动器装置，其特征在于，其中，

所述阳构件和所述阴构件中的至少一个限定止动器表面，通过所述工件保持机构或与所述工件保持机构连接的连接构件与所述止动器表面接触，从而所述工件保持机构的驱动被停止而限定所述工件保持机构的保持位置。