[发明专利]一种PECVD装置

权利要求书

1.一种PECVD装置，其特征在于，包括工艺腔体，以及均设置在所述工艺腔体内的承载架、冷却均热板及至少一个反应室；所述冷却均热板为多个，沿竖直向呈层式排布安装至所述承载架；所述反应室水平设置在相邻两个所述冷却冷却均热板之间，且各所述反应室的上下两侧均设置有所述冷却均热板。

2.根据权利要求1所述的PECVD装置，其特征在于，所述承载架包括支撑件及与所述冷却均热板一一对应的多个固定框，多个所述固定框沿竖直向呈层式排布安装于所述支撑件，各所述冷却均热板分别安装于各所述固定框中。

3.根据权利要求2所述的PECVD装置，其特征在于，所述冷却均热板包括均热管、上均热面板及下均热面板，所述均热管位于所述上均热面板与所述下均热面板之间；所述PECVD装置还包括液体冷却交换设备，各所述冷却均热板的均热管的两端均连接至液体冷却交换设备。

4.根据权利要求3所述的PECVD装置，其特征在于，每个所述冷却均热板所包含的上均热面板及下均热面板的数目相同，且均为两个或两个以上；各所述上均热面板与各所述下均热面板一一相对设置形成子冷却均热板；所述冷却均热板所包含的均热管数目为一个；所述固定框内固设有中杆，所述中杆位于相邻两个子冷却均热板之间。

5.根据权利要求2所述的PECVD装置，其特征在于，所述承载架还包括可调连接件，所述可调连接件连接在所述支撑件与所述固定框之间，用于调整所述固定框在竖直向的位置。

6.根据权利要求1所述的PECVD装置，其特征在于，所述反应室包括相互配合的上电极部和下电极部，所述上电极部和所述下电极部之间形成用于工艺反应的工艺腔室；所述上电极部的上表面中央位置开设有连通至所述工艺腔室的进气口，所述反应室上开设有出气口，所述出气口为两个或两个以上，均匀排布在所述上电极部与所述下电极部之间的周向连接处。

7.根据权利要求1所述的PECVD装置，其特征在于，所述反应室水平滑动放置在相邻两个所述冷却均热板之间。

8.根据权利要求7所述的PECVD装置，其特征在于，所述固定框的上表面设有用于与所述反应室配合的滚轮；所述固定框的下表面设有直线吊轨，所述反应室的上表面设有与所述直线吊轨相配合的微型轮。

9.根据权利要求1所述的PECVD装置，其特征在于，所述承载架滑动放置于所述工艺腔体中。

10.根据权利要求1所述的PECVD装置，其特征在于，所述PECVD还包括真空系统、远程等离子体源清洗系统、及气路系统；各所述反应室共用所述真空系统、所述远程等离子体源清洗系统、及所述气路系统；所述远程等离子体源清洗系统及所述真空系统均通过所述气路系统连通至各所述反应室。