[发明专利]具有受控发射条件的光学光源有效
申请号: | 201310202296.0 | 申请日: | 2013-05-07 |
公开(公告)号: | CN103472537B | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | S·戈德斯坦;I·戴维森;M·戈德斯坦;J·D·谢尔 | 申请(专利权)人: | 弗兰克公司 |
主分类号: | G02B6/27 | 分类号: | G02B6/27 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 董均华;杨炯 |
地址: | 美国华*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 受控 发射 条件 光学 光源 | ||
给光学光源提供受控发射条件的系统、设备和方法包括可调节光纤弯曲/变形设备,以允许装置调节,从而可以准确地控制多模式发射条件。提供LED光源和OTDR/激光实施方式两者。
背景技术
在光学网络测试和测量应用中,准确地控制来自于光源的多模式发射条件是重要的,以便改进光纤衰减测量的一致性,不管是在LED光源应用还是OTDR应用中。
引起的问题是控制来自于多模式源的发射条件,不管是LED源还是激光源,使得多个模式组用高精确度发射。控制多模式光纤中的模式组是用光源和功率表进行可重复、准确和一致损失测量的关键。
控制发射条件的最常见方法是使用具有指定直径和圈数的芯轴包绕物。参考图1,芯轴的视图,芯轴12配置成接收光纤14的多个包绕物。该方法将去除引起衰减测量不一致性的松散耦合较高阶模式。然而,该方法不提供光源之间的一致损失测量,因为取决于光纤如何联接到源和源的制造商,每个光源具有独特发射条件。高达50%的差异是可能的。在涌现的标准需要差异减少至10%时,例如encircled flux(EF),需要用于控制发射条件的新方法。
引起的第二问题是提供可以适应不同多模式光纤尺寸和不同波长的源。顾客使用可以与例如50μm光纤一起使用且对于相同发射带(launch cord)具有满足两个波长(例如,850nm和1300nm)的受控发射条件的一个光源是有利的。
先前服从EP的模式控制器旨在是通用的,从而它们可以与任何LED光源一起使用。然而,这些装置是大的、重的,且难以使用和制造。
与OTDR有关引起的问题是在装置输出处的插入损失。虽然在装置的输出和输入之间预期有一定量的损失,但是损失保持在“参考级端接”是重要的。参考级端接实现小于0.1dB损失。根据标准要求,在发射带的接口连接处需要参考级端接。
用于控制多模式源的发射条件的现有技术是围绕指定尺寸的芯轴包绕测试带,例如5圈,如图1所示。该芯轴需要具有固定外直径(例如,20mm)的圆形装置,光纤电缆包绕到所述芯轴上。该配置形成堆叠效应,使得芯轴高度增加。
发明内容
根据本发明,提供用于控制发射条件的改进方法和设备。光纤弯曲设备给光纤提供可调节弯曲点,从而弯曲量的调节允许将发射条件调节至期望量。所述光纤然后在期望弯曲程度紧固。
因而,本发明的目的是提供改进的发射条件控制装置和方法。
本发明的另一目的是提供用于提供可调节发射条件控制器的改进方法和设备。
本发明的又一目的是提供用于提供可复制发射条件的改进装置和方法。
在本说明书的结束部分中特别地指出并且明确地要求保护本发明的主题。然而,操作的组织和方法两者及其进一步的优点和目的可以通过参考与附图相结合地进行的以下描述来最好地理解,在附图中相同的附图标记指代相同的元件。
附图说明
图1是根据现有技术的具有包绕光纤的芯轴的视图;
图2是根据本公开的测试系统的图示;
图3是根据本公开的混模器的简图;
图4-6图示了根据本公开的线性混模器;
图7是线性可变芯轴的具体示例的视图,具有放大截面剖视中心部分;
图8是线性可变芯轴实施例外视图看起来如何的视图;
图9是本公开的OTDR实施例的框图;
图10是固定混模器、可变芯轴和100米光纤实施例的截面图;
图11是环的示例性变形量的视图;
图12是OTDR ModCon的实施例的部分截面俯视图;和
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