[发明专利]含氟干式涂布剂的涂布方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于将含氟干式涂布（dry coating）剂均匀且范围广地在基材上蒸镀的涂布方法。

背景技术

目前为止，在透镜、偏振片等带防反射膜的光学部件，由于人使用，容易附着汗、指纹、皮脂、化妆品等产生的污垢，特别地，由于在防反射膜的表面有微细的凹凸，因此不容易将污垢除去。此外，只在这样的污垢附着的部分成为高反射，污垢明显，因此是问题所在。

作为解决这样的问题的手段，提出了在光学部件的表面形成具有防污性或防水性的含氟化合物的薄膜的方法。例如，专利文献1（特开平5-215905号公报）中，公开了使用使氟烷基硅氮烷等含浸于金属粉末的烧结过滤器而成的蒸发源的真空蒸镀方法，此外，专利文献2（特开平8-143332号公报）中，公开了使用使氟烷基硅氮烷含浸于钢棉而成的蒸发源的真空蒸镀方法。

这样的真空蒸镀方法中使用的含氟化合物在蒸镀源的含浸，使用用溶剂将含氟化合物稀释的产物，但防污性优异的材料一般分子量大，在一般溶剂中不溶解，因此一般使用氟系溶剂。对于该含浸蒸镀源，一度使作为稀释溶剂的氟系溶剂蒸发，然后采用真空蒸镀方法在被处理基材上使防污层成膜，但确认该稀释溶剂没有完全蒸发而一部分残存的溶剂对真空蒸镀时的蒸散性产生大的影响。

另一方面，对于采用间歇式的真空蒸镀方法在被处理基材上使防污层成膜的方法，特别地，在高分子量的含氟化合物的情形下，被处理基材外周部的附着少等，有时在制造批次间蒸散性不同，这种情况下，实施再处理等处置变得必要，在生产率方面是大的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开平5-215905号公报

专利文献2：特开平8-143332号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明鉴于上述实际情况而完成，其目的在于提供不受含氟有机硅烷化合物的批次影响、能够均匀且范围广地在基材上成膜的含氟干式涂布剂的涂布方法。

用于解决课题的手段

本发明人为了实现上述目的，反复深入研究，结果发现：通过使用用具有某特定沸点范围的氟系溶剂的2品种以上的混合溶剂将含氟有机硅烷化合物稀释的含氟干式涂布剂进行真空蒸镀，能够消除起因于含氟有机硅烷化合物的生产批次波动（ロットブレ）的蒸散性不足，能够均匀且范围广地在基材上成膜，完成了本发明。

因此，本发明提供下述所示的含氟干式涂布剂的涂布方法。

[1]含氟干式涂布剂的涂布方法，是含氟干式涂布剂的涂布方法，其特征在于，将含氟有机硅烷化合物100质量份用含氟干式涂布剂用稀释剂100～99,900质量份稀释，调制含氟干式涂布剂，使用该涂布剂在基材上干式涂布，该含氟干式涂布剂用稀释剂含有（A）从常压下的沸点为100℃以上且小于135℃的氟系溶剂中选择的至少1种和（B）从常压下的沸点为80℃以上200℃以下的氟系溶剂中选择的与（A）成分不同的至少1种，（A）/（B）的质量比为95/5～5/95。

[2][1]所述的含氟干式涂布剂的涂布方法，其中，含氟干式涂布剂用稀释剂中的（A）成分的氟系溶剂选自全氟三丙基胺和六氟间二甲苯。

[3][1]或[2]所述的含氟干式涂布剂的涂布方法，其特征在于，含氟干式涂布剂用稀释剂中的（A）成分和（B）成分的常压下的沸点差为10℃以上80℃以下。

[4][1]～[3]的任一项所述的含氟干式涂布剂的涂布方法，其中，含氟有机硅烷化合物的、采用凝胶渗透色谱求得的聚苯乙烯换算的数均分子量为1,000以上8,000以下的范围。

[5][1]～[4]的任一项所述的含氟干式涂布剂的涂布方法，其中，含氟有机硅烷化合物的、采用¹⁹F-NMR求得的氟原子的量为50质量%以上且小于80质量%的范围。

[6][1]～[5]的任一项所述的含氟干式涂布剂的涂布方法，其中，含氟有机硅烷化合物由下述通式（1）～（3）的任一个表示。

（式中，X为水解性基团，R¹是碳数1～10的一价烃基，R²是氢原子或碳数1～10的一价烃基，Q是可中间存在NH基的碳数1～10的亚烷基。m为15～50的整数，n为2或3。）