[发明专利]一种硼组合物包覆硅纳米浆料的制备方法及其应用有效
申请号: | 201310194574.2 | 申请日: | 2013-05-23 |
公开(公告)号: | CN103280401A | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 刘国钧;杨小旭;蒋红彬;钟朝伟;沈晓东 | 申请(专利权)人: | 刘国钧 |
主分类号: | H01L21/22 | 分类号: | H01L21/22;H01L31/18;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人: | 刘宪池 |
地址: | 436000 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 组合 物包覆硅 纳米 浆料 制备 方法 及其 应用 | ||
技术领域
本发明属于纳米材料技术领域,具体涉及一种硼组合物包覆硅纳米浆料的制备方法及其应用。
背景技术
目前,晶体硅国太阳能电池几乎全部基于P型硅片。P型硅片中通常存在微量的硼氧组合物。使P型电池光致衰减现象,导致电池发电能力下降。相对来说,N型晶硅有许多优点,无光致衰减现象,温度系数低。更重要的是,由于非对称扑捉系数的关系,N型晶硅的少数载流子寿命对金属杂质的要求也不像P型晶硅那样苛刻。因此,N型电池有成本低,发电效率高等优点。成为太阳能电池发展趋势。
目前, 普通N型电池片的基本工艺步骤为:制绒→扩散→氮化硅钝化→导电银浆印刷→烧结→电池片。扩散过程中,通常用三溴化硼气体为硼源在高温扩散炉中将硼扩散到N型硅片基板而形成PN结。理想的电池设计要求对栅线覆盖区域进行重掺,以降低接触电阻,提高填充因子。对光照区,即栅线之间,擬进行轻掺,以提高开路电压和闭路电流。综合提高电池的光电转换效率。
发明内容
为了满足设计和制备N型电池的需要,本发明公开一种含硼浆料,用丝网印刷方式实现对栅线覆盖区域进行重掺。它以金属硅为载体,无腐蚀性,扩散后不需清洗,比硼酸及含硼玻璃粉等浆料体系优越。
为实现上述发明目的,本发明采用了如下技术方案:
一种高聚硼包覆纳米硅浆料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)制备纳米硅悬浊液;
2)在步骤1)制得的纳米硅悬浊液里进行硼聚合包覆反应,反应过程通入保护气氛,同时进行搅拌,将纳米硅悬浊液和含硼高聚物得到均匀的混合分散,从而制得含硼纳米硅浆料,所述含硼纳米硅浆料的粘度在1.0PaS-15.0PaS。
上述工艺步骤具体为:
制备微米级硅粉:利用高能球磨机将硅原料研磨1-4小时得到10-100微米的小硅粒;
制备纳米级硅粉:进行系统抽真空后充入氩气。几次循环后,系统内为氩气环境。调节系统工作气体压力在0.1-0.5MPa之间;开启等离子体发生器电源,功率为5~200千瓦,频率为1~20兆赫兹,调节电压和电流分别在100-200V和50-200A的范围内,使等离子体火炬稳定;同时,从风屏进口处引入冷却气体,开启循环冷却水。控制冷却腔温度60-120℃。启动送粉器,利用氩气流以每小时200-600克硅粉的速度将微米级硅粒带入等离子体火炬,通过气化、成核、生长步骤形成粒径为10-100nm的纳米硅;喷雾溶剂收集:以每小时200-600克的速度喷雾投入气化溶剂,溶剂含有1-3%分散介质,雾化液珠与纳米硅粒结合沉降于圆底烧瓶中,得到悬浊液;
制备多聚硼包覆纳米硅浆料:在保护气氛条件下将20份-60份的含硼化合物和1份-50份的醇化合物置于装有悬浊液的圆底烧瓶中,连续搅拌,将温度控制在60- 120℃, 回流2- 4小时,得到粘稠状含磷纳米硅浆料,粘度范围在1.0-15.0PaS。
优选的,所述含硼化合物为硼酸、三氧化二硼或环硼氮烷中的一种或多种混合物;
优选的,所述醇化合物为异丙醇、松油醇或丙烯酸异冰片环己醇中的中的一种或多种混合物。
优选的,所述气化溶剂为甲苯、环硼氮烷、六甲基二硅氧烷、六甲基二硅氮烷、异丙醇、松油醇、丙烯酸异冰片环己醇中的一种或几种的混合物。
优选的,所述分散介质为三辛基氧化磷或磷酸三辛酯中的一种或两种混合物。
优选的,所述惰性气氛为氮气。
利用上述制备方法制备的多聚硼纳米硅复合浆料的应用,其特征在于,可用于制备太阳能电池,使用工业丝网印刷机将浆料印刷在太阳能电池硅片上,在通常扩散工艺下,可对硅片基板进行选择性掺杂,并形成高、低硼掺杂区域,硼浆覆盖区为高掺杂区,非覆盖区为低掺杂区
上述应用具体步骤为:使用邵氏硬度30-80的PU刮条将上述复合浆料涂在325-400目的丝网印刷网版上。 施加60-90N的印刷压力,以120-200mm/s的印刷速度,将复合浆料印刷在N型电池硅片表面。在200-400℃温度下将溶剂蒸发烘干后,将硅片置于扩散炉内进行硼掺杂扩散。在800-850℃温度下,利用氮气将三溴化硼携带入扩散炉的石英管内,将炉温调至850-1000℃进行硼掺杂扩散,扩散时间为1小时。扩散完成后,硼原子被驱入硅片内,实现浆料覆盖区为重掺杂区,非覆盖区为轻掺杂区。重掺杂区方阻值为10-60Ω/sq,轻掺杂区方阻值为80-120Ω/sq。
发明优点:
本发明所述含磷纳米硅浆料的制备方法及其在晶硅电池领域的应用,具有如下优点:
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