[发明专利]一种电阻炉单晶制备中所需的钼坩埚

说明书

（一）        技术领域

    本发明属于晶体制造领域，特别涉及一种电阻炉单晶制备中所需的钼坩埚。

（二）        背景技术

晶体制备中，所用单晶炉都会使用坩埚，常用的一种是铱金坩埚，价格昂贵，目前高达30万元人民币每公斤；而另一种是钼坩埚，价格较低。

由于新材料的发展，晶体材料在激光技术中广泛应用于工业生产、军事、通信、生物制药、医疗卫生等方面，一种是中频感应单晶炉生长方法，使用坩埚是铱金坩埚，设备、坩埚总投资每台高达300万人民币，每个坩埚重8公斤，价值240万元人民币，而采用钼坩埚电阻炉生产晶体，价格不到中频感应单晶炉的25%，但缺点是每次生产用一个钼坩埚，一年正常一套设备需用60-100个坩埚，增加了生产成本，造成了资源的浪费。

（三）        发明内容

    本发明为了弥补现有技术的不足，提供了一种结构简单、使用价值高的电阻炉单晶制备中所需的钼坩埚。

本发明是通过如下技术方案实现的：

一种电阻炉单晶制备中所需的钼坩埚，包括两个钼坩埚，其特征在于：所述两钼坩埚的外层均喷涂有氧化锆涂层，两个钼坩埚大小配合、上下套装在一起。

本发明在坩埚外设置氧化锆涂层，加工坩埚的牢固度，防止坩埚开裂，同时两个坩埚套装在一起，在坩埚受热膨胀时均匀加固了坩埚，延长了其使用寿命。

所述两钼坩埚之间存在缝隙，保证升降温时，热膨胀在晾干过中间的热应力释放，解决了坩埚开裂的问题。

本发明采用双层套筒氧化锆喷涂式钼坩埚，保证了坩埚的使用寿命，生产中每年用很少几个，坩埚能够反复多次使用，节约钼材资源，大大降低成本，并能增大坩埚尺寸，提高产品收率，保证晶体质量，有利于大规模生产。

（四）        附图说明

下面结合附图对本发明作进一步的说明。

图1为本发明的结构示意图。

图中，1钼坩埚，2氧化锆涂层，3缝隙。 

（五）        具体实施方式

附图为本发明的一种具体实施例。该实施例包括两个钼坩埚1，所述两钼坩埚1的外层均喷涂有氧化锆涂层2，两个钼坩埚1大小配合、上下套装在一起；所述两钼坩埚1之间存在缝隙3。

在两个钼坩埚1外层喷涂氧化锆涂层2，将两个钼坩埚1套装在一起，在坩埚受热膨胀时均匀加固了坩埚，使坩埚不开裂，保证了坩埚的多次使用，并彻底解决目前电阻炉所用坩埚尺寸不够大、装料少、产量低、质量不足等缺点。

氧化锆涂层2的作用有两个方面，一是加固坩埚的牢固度，防止在晶体生产中，特别是在升降温中（温度1950℃）使坩埚开裂，生产失败；二是由于两个钼坩埚1套装在一起，又一次加固坩埚，使升降温时热膨胀在两钼坩埚1中间热应力释放，解决了单层坩埚开裂的问题。