[发明专利]一种红叶石楠一致性穴盘苗扦插方法无效

专利信息
申请号: 201310189301.9 申请日: 2013-05-21
公开(公告)号: CN103283448A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 叶明海 申请(专利权)人: 江苏圣宏农业科技有限公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 212400 江苏省镇江市句容*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 红叶 石楠 一致性 穴盘苗 扦插 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及苗木栽培领域,具体地说涉及一种红叶石楠一致性穴盘苗扦插方法。

背景技术

红叶石楠属蔷薇科石楠的栽培品种群。常绿阔叶小乔木或多枝丛生灌木。嫩梢新叶鲜红,顶生伞形圆锥花序,小花白色,花期4月上旬~5月上旬。梨果红色,夏末成熟,可持续挂果到翌年春。

红叶石楠是红色叶系的采花小乔木树种,已经成为园林和绿化的首选,目前市场竞争非常激烈。但现有的红叶石楠生产技术规模小,如果想把规模做大,出苗大小不一致,对产品质量造成较严重的影响。

红叶石楠是小型乔木,在扦插过程中选取的枝条太嫩,不会生根,因此在扦插过程中对母本的选择、确定采穂时间、和对插穗的处理具有非常重要的意义。

发明内容

发明目的:本发明的目的是提供一种适用于大规模生产获得高质一致性红叶石楠的穴盘苗扦插方法。

技术方案:为了实现上述发明目的,本发明的一种红叶石楠一致性穴盘苗扦插方法,其特征在于,该方法包括:采收新鲜健壮的红叶石楠枝条,进行严格的分级保证大小一致,插穗切口的长度以3~3.5cm为宜,保留一叶一芽,上切口位于保留叶片处腋芽以上2mm以确保腋芽的生命力,下切口选在叶柄或托叶痕下1mm处以利于生根;

对插穗基部采用激素速蘸处理,按株行距40cm×35cm扦插入盛满基质的穴盘中,浇足定根水,并进行管理。

当年苗采收时间为六月初、九月中旬各一次;两年及两年以上母本从三月份至九月份根据木质化程度进行采穂。

所述用于速蘸处理的激素包括ABT或NAA或两者的组合。采用传统IBA没有效果,ABT的生根效果比NAA更显著。

所述插穗切口浸蘸深度为0.8~1.2cm。最适深度为1cm。

扦插时,插穗叶面全部朝向南面。

扦插后对幼苗进行管理,保持基质相当于饱和含水量的60~70%、空气相对湿度95%以上;当插穗90%以上生根时及时炼苗,逐步通风,保持基质含水量相当于饱和含水量的45%;高温季节加盖遮阳率75~90%的遮阳网,生根过程中控制棚内温度在25~40℃范围内。

扦插后每隔10天喷施叶面肥一次,直到炼苗结束,炼苗后浇施复合肥。

有益效果:本发明的一种红叶石楠一致性穴盘苗扦插方法通过严格的扦插控制,实现了红叶石楠规模化扦插种植获得高质一致性苗木。在收集母枝、插穗切口、浸蘸生物激素方面进行了特殊处理,并在扦插后对苗木进行管理,实现了红叶石楠大规模化扦插繁殖,并获得高质量产品。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明进行进一步说明。

本发明的一种红叶石楠一致性穴盘苗扦插方法包括:

采收新鲜健壮的红叶石楠枝条,进行严格的分级保证大小一致,插穗切口的长度以3~3.5cm为宜,保留一叶一芽,上切口位于保留叶片处腋芽以上2mm以确保腋芽的生命力,下切口选在叶柄或托叶痕下1mm处以利于生根;对插穗基部采用激素速蘸处理,按株行距40cm×35cm扦插入盛满基质的穴盘中,浇足定根水,并进行管理。

疏松、肥沃的土壤对红叶石楠的生长极为有利。如果土壤粘重、板结、透气性差,则必须进行改良。栽植前2个月每亩施入腐熟厩肥3000kg~4000kg,过磷酸钙50kg,呋喃丹2kg,进行一次深耕,深度25cm,不留死角。2个月后进行第二次深翻,深度25cm以上;接着细耙一次,要耕细耙平。在作床时,应注意床面要中间略高,两侧稍低;步道两头低中间稍高,以保证排水畅通。

当年苗采收时间为六月初、九月中旬各一次;两年及两年以上母本从三月份至九月份根据木质化程度进行采穂。该技术可解决红叶石楠穂条采收过嫩的问题。

所述用于速蘸处理的激素包括ABT或NAA或两者的组合。

所述插穗切口浸蘸深度为0.8~1.2cm。

扦插时,插穗叶面全部朝向南面。

扦插后对幼苗进行管理,保持基质相当于饱和含水量的60~70%、空气相对湿度95%以上;当插穗90%以上生根时及时炼苗,逐步通风,保持基质含水量相当于饱和含水量的45%;高温季节加盖遮阳率75~90%的遮阳网,生根过程中控制棚内温度在25~40℃范围内。

扦插后每隔10天喷施叶面肥一次,直到炼苗结束,炼苗后浇施复合肥。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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