[发明专利]超声清洗方法和超声清洗装置

权利要求书

1.一种超声清洗方法，用于利用超声波照射其中溶解有气体的液体来清洗所述液体中的待清洗物（W），所述方法包括以下步骤：

-制备好其中溶解有所述气体的所述液体；以及

-在对所述液体施加超声波以使得在所述超声波的四阶频率时的所述液体的振动强度除以在所述超声波的基频时的所述液体的振动强度所确定的比值大于0.8/1000时，清洗所述待清洗物（W）。

2.根据权利要求1所述的超声清洗方法，其中，在所述清洗所述待清洗物（W）的步骤中，对所述液体施加超声波，以使得在所述超声波的五阶频率时的所述液体的振动强度大于在所述四阶频率时的所述液体的振动强度。

3.根据权利要求1或2所述的超声清洗方法，还包括测量在所述四阶频率时的所述液体的振动强度的步骤。

4.根据权利要求1或2所述的超声清洗方法，还包括以下步骤：

-测量在所述四阶频率时的所述液体的振动强度和在所述基频时的所述液体的振动强度；以及

-计算在所述四阶频率时的所述液体的振动强度与在所述基频时的所述液体的振动强度之间的比值。

5.根据权利要求3或4所述的超声清洗方法，其中，在所述清洗所述待清洗物（W）的步骤中，根据在所述四阶频率时的所述液体的振动强度来调节所述液体，以达到在所述液体中不断产生含有所述气体的气泡的状态。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的超声清洗方法，其中，所述清洗所述待清洗物（W）的步骤包括其中出现声致发光的步骤。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的超声清洗方法，其中，所述气体是氮，所述液体中的溶解气体浓度大于或等于5ppm。

8.一种超声清洗装置（100），用于利用超声波照射其中溶解有气体的液体来清洗所述液体中的待清洗物（W），所述装置包括：

照射模块（30），能够利用超声波照射所述液体；

容器（20），能够容纳所述液体；以及

设备（71），能够测量在所述超声波的四阶频率时的所述液体的振动强度。

9.根据权利要求8所述的超声清洗装置（100），包括调节机构（45），能够根据在所述四阶频率时的所述液体的振动强度来达到在所述液体中不断产生含有所述气体的气泡的状态。