[发明专利]一种聚酰亚胺薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201310175313.6 申请日: 2013-05-14
公开(公告)号: CN104151822A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 桂仁义 申请(专利权)人: 昆山杉木电子科技有限公司
主分类号: C08L79/08 分类号: C08L79/08;C08G73/10;B29C41/24;B29C55/12
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摘要:
搜索关键词: 一种 聚酰亚胺 薄膜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种聚合物材料的制备方法,特别涉及一种柔性线路板覆铜用的低收缩聚酰亚胺薄膜的制备方法。

背景技术

聚酰亚胺薄膜是一种新型的耐高温有机聚合物薄膜,它是目前世界上性能最好的薄膜类绝缘材料,具有优良的力学性能、电性能、化学稳定性以及很高的抗辐射性能、耐高温和耐低温性能。聚酰亚胺薄膜自1966年首次推向市场,就以其优异的性能作为高性能绝缘材料应用于航空航天工业、电子电气工业和信息产业等各个领域。

现有的柔性覆铜箔基板聚酰亚胺薄膜主要依赖于进口,国内聚酰亚胺薄膜在外观、热膨胀系数以及尺寸稳定性上面还存在多方面的不足,满足不了中高端覆铜箔基板的应用。传统的制备方法是采用单一二胺和单一的二酐的方式,这种方式制成的薄膜的抗张强度和伸长率均很低,同时热膨胀系数也不高,品质达不到中高端产品的需要。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供了一种聚酰亚胺薄膜的制备方法,以达到提高聚酰亚胺薄膜的品质,满足中高端覆铜箔基板的需求的目的。

为达到上述目的,本发明的技术方案如下:

一种聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括如下操作步骤:

(1)树脂的聚合:在反应釜一中添加DMAC溶液溶解对苯二胺和二氨基二苯醚,对苯二胺和二氨基二苯醚的摩尔比为1.5~2.0∶1,溶解完成后,将反应釜一中的溶液用泵抽到反应釜二中,同时过滤,在反应釜二中添加3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐和均苯四甲酸二酐,3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐和均苯四甲酸二酐的摩尔比为0.25~0.35∶1,形成聚酰胺酸树脂,待树脂粘度达到60000~80000cps,添加树脂总量1.5%~3%的改性剂,平衡搅拌5小时,静置消泡待用;

(2)聚酰亚胺薄膜形成:将消泡后的聚酰胺酸树脂,经过挤出模头挤出于钢带上面,在150~195℃下,挥发溶剂形成树脂干膜,将其固定在砧板上面,进行MD和TD方向的双重拉伸,同时在220~410℃下不同时间段的闭环交联形成聚酰亚胺薄膜。

优选的,所述改性剂为二(2-乙基己基)磷酸酯。

优选的,所述对苯二胺和二氨基二苯醚的摩尔比为1.5∶1。

优选的,所述3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐和均苯四甲酸二酐的摩尔比为0.3∶1。

优选的,所述DMAC溶液的用量为树脂总量的85%。

优选的,所述改性剂二(2-乙基己基)磷酸酯的用量为树脂总量的2%。

通过上述技术方案,本发明提供的聚酰亚胺薄膜的制备方法采用多种二胺和多种二酐在DMAC溶剂中形成聚酰胺酸树脂,将此树脂在常温下涂覆于载体或者流延形成聚酰亚胺薄膜,该膜在经过拉伸同时在220~410℃下闭环交联形成聚酰亚胺薄膜,经过多种二胺和二肝合成的薄膜,在抗张强度和伸长率上面均有提高,同时热膨胀系数在经过改性后趋近于铜箔,具有良好的热收缩稳定性,同时降低了成本,提高了品质。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

本发明提供了一种聚酰亚胺薄膜的制备方法,该方法制得的聚酰亚胺薄膜性能好,成本低,品质高。

一种聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括如下操作步骤:

实施例1:

(1)树脂的聚合:在反应釜一中添加配方总量85%的DMAC溶液,加热至45~65℃,添加摩尔比为1.5∶1的对苯二胺和二氨基二苯醚,溶解2~3小时,溶解完成后,此时溶液呈红褐色,然后将反应釜一中的溶液用泵抽到反应釜二中,同时过滤,在反应釜二中添加摩尔比为0.3∶1的3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐和均苯四甲酸二酐,形成聚酰胺酸树脂,待树脂粘度达到60000~80000cps,添加树脂总量2%的改性剂二(2-乙基己基)磷酸酯,使反应更趋近于正反应方向进行,同时增加树脂键与键之间的密着性,平衡搅拌5小时,然后静置消泡待用。反应中保持树脂温度在70℃以下,若出现反应温度过高,采用循环冷却水进行冷却,以免树脂裂解;

(2)聚酰亚胺薄膜形成:将消泡后的聚酰胺酸树脂,经过挤出模头挤出于钢带上面,在150~195℃下,挥发溶剂形成树脂干膜,将其固定在砧板上面,进行MD和TD方向的双重拉伸,同时在220~410℃下不同时间段的闭环交联形成聚酰亚胺薄膜。

实施例2:

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