[发明专利]玻璃基板及其制造方法和薄膜太阳能电池的制造方法

权利要求书

1.一种玻璃基板，包括第一表面和第二表面，所述第一表面为光线入射面，所述第二表面为光线射出面，其特征在于：在所述第一表面和/或第二表面上具有微米级的表面微结构。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于：所述表面微结构为连续分布的微形坑。

3.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于：所述表面微结构为连续分布的微形金字塔。

4.根据权利要求2所述的玻璃基板，其特征在于：所述微形坑的直径为1～7um，深度为0.5～4um。

5.一种权利要求1所述玻璃基板的制造方法，包括步骤：

对玻璃表面进行超声波去离子水清洗；

利用HF/HCL对玻璃表面进行预处理；

对玻璃表面进行蒙砂粉末/HCL化学刻蚀；

对刻蚀后的玻璃表面进行H₂SO₄/HCL酸洗；

对玻璃表面进行HF/HCL酸洗；

超声波去离子水清洗。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述化学刻蚀的时间为10秒至100秒。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述粉末微粒的形状为球体或多面体。

8.一种薄膜太阳能电池的制造方法，包括下列步骤：

对玻璃基板表面进行化学刻蚀；

透明导电氧化物前电极薄膜沉积；

P1激光划线；

双结非晶、微晶硅薄膜电池各层系沉积；

P2激光划线；

电池背电极沉积；

P3激光划线；

层压封装和退火处理。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述对玻璃基板表面进行化学刻蚀的步骤包括：

对玻璃表面进行超声波去离子水清洗；

利用HF/HCL对玻璃表面进行预处理；

对玻璃表面进行蒙砂粉末/HCL化学刻蚀；

对刻蚀后的玻璃表面进行H₂SO₄/HCL酸洗；

对玻璃表面进行HF/HCL酸洗；

超声波去离子水清洗。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：所述化学刻蚀的时间为10秒至100秒。

11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述透明导电氧化物前电极薄膜为掺硼氧化锌(BZO)导电薄膜。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于：所述掺硼氧化锌(BZO)导电薄膜表面具有纳米级的表面微结构。