[发明专利]用于光刻设备的正面与背面对准测量装置有效

专利信息
申请号: 201310173132.X 申请日: 2013-05-13
公开(公告)号: CN104155850B 公开(公告)日: 2017-06-27
发明(设计)人: 杜荣;潘炼东;于大维;李志丹;徐兵 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 光刻 设备 正面 背面 对准 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种用于光刻设备的正面与背面对准装置,其特征在于包括第一对准系统、第二对准系统以及中继单元;两套对准系统光路互为补充,第二对准系统的光源发出的光线经过工件台上硅片的对准标记及中继单元,可成像在自身的成像设备或第一对准系统的成像设备上,第一对准系统的光源发出的光线经过工件台上硅片的对准标记,可成像在自身的成像设备上或经中继单元成像在第二对准系统的成像设备上。

2.如权利要求1所述的正面与背面对准装置,其特征在于所述对准系统光学设计波段为600-1300nm,使得既可用于近红外光照明,也可用于可见光照明。

3.如权利要求2所述的正面与背面对准装置,其特征在于所述对准系统均包括光源、成像设备以及光学系统。

4.如权利要求1所述的正面与背面对准装置,其特征在于所述中继单元由反射镜及成像镜片组成。

5.如权利要求1所述的正面与背面对准装置,其特征在于所述中继单元包含反射镜。

6.如权利要求3所述的正面与背面对准装置,其特征在于所述光源包括滤波片。

7.如权利要求6所述的正面与背面对准装置,其特征在于滤波片可手动或自动更换。

8.如权利要求3所述的正面与背面对准装置,其特征在于所述中继单元安装于工件台内部。

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