[发明专利]一种用于光刻设备的硅片对准光源系统

权利要求书

1. 一种用于光刻设备的硅片对准光源系统，其特征在于包括：光源模块，光强调制模块，光纤模块，光电探测模块，AD采集模块，相位调整模块，控制模块以及对准探测模块；所述光源模块发出的光经过所述光强调制模块幅度调制，并通过所述光纤模块后一路进入所述对准探测模块；另一路经过所述光电探测模块进行光电转换，所述AD采集模块采集和所述相位调整模块校准后，经过所述控制模块对所述光强调制模块进行控制。

2.如权利要求1所述的硅片对准光源系统，其特征在于：所述光源模块包括激光器和激光控制器，用于输出单个波长的激光。

3.如权利要求1所述的硅片对准光源系统，其特征在于：所述光强调制模块产生调制信号，对所述光源模块输出的光束进行光强幅度调制，并提供一路参考信号给相位调整模块。

4.如权利要求3所述的硅片对准光源系统，其特征在于：所述光强调制模块包括信号源、滤波、缓冲以及电压-电流转换四个部分。

5.如权利要求3所述的硅片对准光源系统，其特征在于：所述参考信号与调制信号相同。

6.如权利要求3所述的硅片对准光源系统，其特征在于：所述调制信号为                                               ，其中A为幅值，f为调制频率，为相位。

7.如权利要求1所述的硅片对准光源系统，其特征在于：所述光纤模块包括光纤分束器、光纤跳线以及光纤准直器；光纤分束器用于耦合并对光束进行分束，光纤跳线用于传输调制光束，光纤准直器用于对光束进行准直。

8.如权利要求1所述的硅片对准光源系统，其特征在于：所述控制模块接收所述AD采集模块的信号，并对所述光源模块、相位调整模块进行控制。

9.一种使用如权利要求1-8之一所述的硅片对准光源系统的对准方法，其特征在于包括如下步骤：

步骤一，开启光源模块，控制模块设定光强幅值，调制模块产生调制信号；

步骤二，所述调制信号分为两路，一路作为参考信号输入至相位调整模块，另一路对光源模块输出的光束进行调制，调制光经过光纤模块输出至光电探测模块获得光电探测信号，并由AD采集模块接收和采集；

步骤三，相位调整模块产生采集控制信号反馈给AD采集模块，保证AD采集模块每次都可以采集到峰值，即光强幅值；

步骤四，AD采集模块对光电探测信号采集光强幅值数据，并反馈给控制模块；

步骤五，控制模块比对步骤一设定的光强幅值与步骤四所采集到的光强幅值以获得光强的波动量，通过反馈控制光源模块的输出，保证光源模块的输出功率稳定；

步骤六，进行对准探测。

10. 如权利要求9所述的对准方法，其特征在于：所述步骤三还包括根据所述参考信号和校准延时值来产生所述采集控制信号，所述校准延时值通过相位校准来获取，相位校准步骤为：设置相位调整模块初始延时值，AD采集模块采集光电探测信号，按一定步长依次改变初始延时值，同时采集光电探测信号；根据一系列的延时值和对应的光电采集信号，获取对应最大光电采集信号的延时值即所述校准延时值，将该校准延时值锁定后，可保证AD采集模块每次都可以采集到峰值。