[发明专利]金属键帽无效
| 申请号: | 201310172748.5 | 申请日: | 2013-05-10 |
| 公开(公告)号: | CN103346036A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
| 发明(设计)人: | 高汉斌 | 申请(专利权)人: | 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01H13/705 | 分类号: | H01H13/705 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金属键 | ||
1.一种金属键帽,其特征在于,包含:
键帽主体,具有顶面,该顶面上形成有图案微结构区;以及
油墨层,其附着于该图案微结构区上。
2.如权利要求1所述的金属键帽,其特征在于,该图案微结构区为表面粗糙微结构。
3.如权利要求2所述的金属键帽,其特征在于,该表面粗糙微结构以激光雕刻、化学蚀刻或表面喷砂的方式形成于该顶面上。
4.如权利要求3所述的金属键帽,其特征在于,该表面粗糙微结构为锯齿状或颗粒状剖面。
5.如权利要求1所述的金属键帽,其特征在于,该图案微结构区为内凹微结构,该内凹微结构具有底面,该内凹微结构的该底面自该键帽主体的该顶面向下凹陷一深度。
6.如权利要求5所述的金属键帽,其特征在于,该内凹微结构是以激光雕刻、化学蚀刻或冲压成型的方式形成于该顶面上。
7.如权利要求5所述的金属键帽,其特征在于,该深度介于5μm至10μm的范围内。
8.如权利要求5所述的金属键帽,其特征在于,另包含:
保护层,其形成于该油墨层上以突出于该顶面上或是与该油墨层共同容置于该图案微结构区内。
9.如权利要求5所述的金属键帽,其特征在于,另包含:
保护层,其形成于该油墨层上,且该油墨层和该保护层的厚度之和等于该内凹微结构的该深度,使得该保护层的上表面平齐于该顶面。
10.如权利要求5至9任一项所述的金属键帽,其特征在于,该内凹微结构的该底面上形成有表面粗糙微结构。
11.如权利要求10所述的金属键帽,其特征在于,该表面粗糙微结构为锯齿状或颗粒状剖面。
12.如权利要求1所述的金属键帽,其特征在于,另包含:
保护层,其形成于该油墨层上。
13.如权利要求1所述的金属键帽,其特征在于,该油墨层是以网版印刷、移印或喷墨印刷的方式附着于该图案微结构区上。
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