[发明专利]有机发光显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种有机发光显示装置，包括：

基板；

在所述基板上形成的至少一个彩色滤光片；

覆盖所述至少一个彩色滤光片的覆盖层；

在所述覆盖层上形成的第一钝化层；

在所述第一钝化层上形成的光散射层；

在所述光散射层上形成的第一电极；

面向所述第一电极的第二电极；和

位于所述第一电极和所述第二电极之间的有机层，

其中所述光散射层由选自由氧化锌、氧化铜和氧化铟镓锌组成的组中的至少一种材料形成，且

其中所述光散射层的厚度为1nm至100nm。

2.如权利要求1所述的有机发光显示装置，进一步包括在所述光散射层和所述第一电极之间的第二钝化层。

3.如权利要求1所述的有机发光显示装置，进一步包括位于所述基板和所述至少一个彩色滤光片之间的保护层。

4.如权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，所述至少一个彩色滤光片为红色滤光片、绿色滤光片和蓝色滤光片中的任意一个。

5.如权利要求2所述的有机发光显示装置，进一步包括在所述第二钝化层上的由像素区域和非像素区域组成的像素限定层。

6.如权利要求2所述的有机发光显示装置，其中，所述第一和第二钝化层包括含氧化硅SiO_x或氮化硅SiN_x的组合物，其中x为0.1至2。

7.一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括：

提供基板；

在所述基板上形成至少一个彩色滤光片；

形成覆盖所述彩色滤光片的覆盖层；

在所述覆盖层上形成第一钝化层；

在所述第一钝化层上形成光散射层；

在所述光散射层上形成第一电极；

在所述第一电极上形成有机层；和

在所述有机层上形成第二电极，

其中所述光散射层由选自由氧化锌、氧化铜和氧化铟镓锌组成的组中的至少一种材料形成，且

其中所述光散射层的厚度为1nm至100nm。

8.如权利要求7所述的方法，进一步包括在提供所述基板后并在形成所述至少一个彩色滤光片前，在所述基板上形成保护层。

9.如权利要求7所述的方法，其中，所述形成第一钝化层包括使用含氧化硅SiO_x或氮化硅SiN_x的组合物形成所述第一钝化层，其中x为0.1至2。

10.如权利要求7所述的方法，其中，所述形成光散射层包括化学沉积法或溅射法。

11.如权利要求7所述的方法，进一步包括在形成所述光散射层后并在形成所述第一电极前，在所述光散射层上形成第二钝化层。

12.如权利要求11所述的方法，其中，所述第二钝化层包括化学式SiO_x或化学式SiN_x表示的组合物，其中，其中x为0.1至2。

13.如权利要求11所述的方法，进一步包括在形成所述第一电极后并在形成所述有机层之前，在所述第二钝化层上形成由像素区域和非像素区域组成的像素限定层。