[发明专利]一种单片结构的电容式触摸屏制造工艺及其方法无效

专利信息
申请号: 201310168778.9 申请日: 2013-05-09
公开(公告)号: CN103218101A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 左富强 申请(专利权)人: 左富强
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 湖北省孝感市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 单片 结构 电容 触摸屏 制造 工艺 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种单片结构的电容式触摸屏制造工艺及其方法,其特征在于:所述单片结构的电容式触摸屏使其背向面板触控面的下表面通过丝印装饰图案,镀ITO导电膜,电镀或丝印金属导电材质做引出导线,根据所设计的电极图案对ITO导电膜及金属引出导线进行蚀刻,再用导电胶通过邦定工序与柔性线路板简称FPC相联进而与触控IC导通产生触控功能。

2.根据权利要求1所述单片结构的电容式触摸屏制造工艺及其方法其特征在于:所述单片结构的电容式触摸屏其面板分为大板工艺和小片工艺,其区别在于大板是将整个线路做好后再切割,小片工艺是先将大板切割成小片再做线路。

3.根据权利要求1所述单片结构的电容式触摸屏制造工艺及其方法,其特征在于:所述单片结构的电容式触摸屏其面板材质为PMMA、玻璃、PMMA/PC复合料等且不限所述材质。

4.根据权利要求1所述单片结构的电容式触摸屏制造工艺及其方法,其特征在于:所述ITO 导电膜是镀在其面板的丝印装饰图案面,其ITO 导电膜透过率在85%以上,方块电阻在30?/□-400?/□。

5.根据权利要求1所述单片结构的电容式触摸屏制造工艺及其方法,其特征在于:所述对ITO导电膜及金属引出导线进行蚀刻,是将镀好ITO导电膜及金属引出导线的面板通过光刻、丝印蚀刻、镭射激光等其中一种且不限于其中一种工艺蚀刻出所设计的电极图案。

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