[发明专利]一种脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基的方法

说明书

技术领域

本发明涉及化学合成领域，具体涉及一种脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基的方法

背景技术

羧基和羟基是有机合成中重要的官能团，通过化学反应其可转变成其它官能团。由于羧基和羟基比较活泼，所以在多步有机合成反应中通常使用保护基将其保护，使有机分子中其它官能团发生希望的化学反应，最后在适当的时候脱除保护基。在羧基和羟基的保护基中，对甲氧基苄基类保护基对各种试剂和反应条件的稳定性较好，是应用最广泛的保护基之一，因此脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基在有机合成中尤为重要。

在有机合成反应中，脱除羧基的对甲氧基苄基保护基的方法单一，主要是以三氟醋酸为强酸剂脱除保护。例如，在β-内酰胺有关的抗生素的合成过程中，文献(J.Org.Chem.，1991，56，3633-3637)报道了在三氟醋酸/苯酚/45℃的条件下，脱除对甲氧基苄基对羧酸的保护。脱除羟基的对甲氧基苄基保护基的方法较多，主要有以下几种：文献(Tetrahedron，1986，42，3021-3028)报道了以2，3-二氯-5，6-二腈基苯醌(DDQ)为氧化剂进行选择性氧化脱保护；文献(J.Chem.Soc.，Perkin Trans.1，1984，2371-2374)报道了硝酸铈铵(CAN)可以选择性的断裂对甲氧基苄酯，而且不影响其它酯基团；当采用DDQ不能进行脱保护时，文献(Chem.Pharm.Bull.1988，36，4244-4247)采用Ph₃C⁺BF₄^-/CH₂Cl₂的条件，有效脱除对甲氧基苄基保护。这是因为附带一个更缺电子的异头中心，导致芳环上的电子云密度降低。文献(J.Org.Chem.，1990，55，7-9)报道了氢气/钯碳(H₂，Pd/C)条件下可以有效脱除保护。文献(Synlett，1995，523-524)报道了使用三氟醋酸/苯酚的条件也可以脱除羟基的对甲氧基苄基保护。这些方法虽然能够脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基保护，但是强酸和金属试剂的使用，不可避免的产生大量液体和固体废弃物，对环境造成不利影响。

蒙脱石(Montmorillonite)又名微晶高岭石，是一种层状结构、片状结晶的硅酸盐粘土矿。其族系物有11种，其成分为(Na，Ca)_0.33

(Al，Mg)₂[Si₄O₁₀](OH)₂·nH₂O，由二层共顶联接的硅氧四面体片夹一层共棱联接的铝(镁)氧(氢氧)八面体片构成2∶1型含结晶水结构，是粘土类矿物中晶体结构变异最强的矿物之一，通过衍射仪慢速扫描的试验结果表明为天然纳米材料。蒙脱土在工业上应用范围很广，例如聚合物的添加剂、有毒物质的吸附剂、催化剂、涂层剂等，被人们誉为“万能材料”。此外，蒙脱石矿藏资源丰富，价格低廉，是一种清洁绿色环保资源。

在有机合成过程中，大量有机和无机试剂的使用导致环境日趋恶化，直接或间接地对各种生物造成了危害，严重破坏了生态平衡，直接威胁到人类的生存。因此，研究开发新型的绿色化学产品并应用于有机合成过程中显得尤为重要。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种经济高效、绿色环保的脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基的方法。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

一种经济高效、绿色环保的脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基的方法：以羧基或羟基被对甲氧基苄基类保护基保护的化合物为反应底物，以各种类型的固体酸为脱保护剂，有机溶剂为反应溶剂，在-10℃至120℃温度下进行反应，可以高效地脱除对甲氧基苄基类保护基对羧基和羟基的保护。