[发明专利]日光温室二次闷棚处理技术无效
| 申请号： | 201310158662.7 | 申请日： | 2013-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN103271019A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 郝建朋 | 申请（专利权）人： | 郝建朋 |
| 主分类号： | A01M17/00 | 分类号： | A01M17/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266106 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 日光温室 二次 处理 技术 | ||
【权利要求书】：
1.一种日光温室二次闷棚处理技术，其特征包括：清洁温室、烟火闷棚、发酵翻耕、覆膜闷棚；
清洁温室，将温室内的残枝、落叶、果实等杂物清理除去，使室内净洁；
烟火闷棚，先将室内轻浇一次水，再按每百平方米放置一个50-70公斤的干草堆，在每个干草堆上覆盖5-10厘米厚的干锯末，在干锯末上撒放0.5公斤硫磺粉，然后点燃干草堆，关闭温室7-10天；
发酵翻耕，烟火闷棚后每百平方撒放1立方新鲜鸡粪，并迅速深耕地25厘米以上；
覆膜闷棚，调节土壤含水量60％左右，将地面用地膜严密覆盖，封闭温室15-20天。
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