[发明专利]化学机械研磨设备

权利要求书

1.一种化学机械研磨设备，包括：研磨垫、研磨头和端口，在化学机械研磨工艺过程中，所述研磨头夹持半导体衬底，所述研磨头与研磨垫能够进行旋转运动，所述研磨头能相对所述研磨垫进行相对滑动，所述相对滑动方向平行于第一直线方向，所述端口用于在研磨垫和研磨头上的半导体衬底之间提供研磨液，其特征在于，所述端口能够相对研磨垫进行相对滑动，该相对滑动的方向平行于所述第一直线方向。

2.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述端口与研磨头一起相对于所述研磨垫进行同步滑动，所述端口与研磨垫之间的相对距离固定。

3.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述端口的远离研磨头和研磨垫的一端设置有导轨，所述端口可沿所述导轨进行滑动，所述导轨的方向与所述第一直线方向平行。

4.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述端口位于所述研磨垫的后方。

5.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述端口位于研磨垫上方的一端具有弧形出口，研磨液自所述弧形出口流出。

6.如权利要求5所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述弧形出口的形状为圆弧形，所述弧形出口上设置有多个研磨液流出孔。

7.如权利要求6所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述弧形出口的半径不小于研磨头半径。

8.如权利要求7所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述弧形出口的半径为所述研磨头半径的1-1.5倍。

9.如权利要求6所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述弧形出口中设置的研磨液流出孔的数目范围为4-16个。

10.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述端口与研磨头之间的距离范围为5-15厘米。