[发明专利]一种光刻机硅片台微动工作台

权利要求书

1.一种光刻机硅片台微动工作台，含有基座（1），微动工作台动子，微动工作台定子，其特征在于：该微动工作台还包括第一种洛伦兹电机和第二种洛伦兹电机；所述的第一种洛伦兹电机实现在水平面内沿X方向、Y方向和绕Z轴旋转的三个自由度运动；所述的第二种洛伦兹电机实现沿Z方向、绕X轴旋转和绕Y轴旋转的三个自由度运动；所述的第一种洛伦兹电机采用四个，呈方形布置，且该种电机的线圈在水平面内出力；所述第二种洛伦兹电机采用四个，第二种洛伦兹电机分别对应布置在每个第一种洛伦兹电机外侧，呈方形布置，且该种电机的线圈沿竖直方向出力；

四个第一种洛伦兹电机的永磁体、轭铁和永磁体骨架以及四个第二种洛伦兹电机的永磁体、轭铁和永磁体骨架共同组成微动工作台的动子部分；四个第一种洛伦兹电机和四个第二种洛伦兹电机的线圈和线圈骨架以及微动台基座共同组成微动工作台的定子部分。

2.按照权利要求1所述的一种光刻机硅片台微动工作台，其特征在于：所述的微动工作台还包含一组重力补偿结构，重力补偿结构位于微动工作台中心部位，该组重力补偿结构包含至少三个永磁体单元和一个重力补偿隔板（11），每个永磁体单元由永磁体和轭铁组成，永磁体单元沿环形均布在微动台竖直中心轴线的周围，永磁体单元与永磁体骨架的上表面连接在一起，重力补偿隔板（11）位于永磁体单元的下部，并与微动工作台线圈骨架（4）连接在一起，所述的永磁体单元与重力补偿隔板（11）之间留有间隙。

3.按照权利要求1或2所述的一种光刻机硅片台微动工作台，其特征在于：所述的微动工作台还包含三个位于微动工作台内部的二维位移测量传感器组件，每一个二维位移测量传感器组件包括二维位移测量传感器（41）、激光头（42）、传感器安装座（43）以及激光头安装座（44）；每个二维位移测量传感器（41）安装在传感器安装座（43）上，传感器安装座（43）设置在微动工作台线圈骨架（4）的底部；激光头（42）安装在激光头安装座（44）中，激光头安装座（44）安装在永磁体骨架的底部，并使激光头（42）与二维位移测量传感器（41）相对应布置，且留有间隙。

4.按照权利要求1所述的一种光刻机硅片台微动工作台，其特征在于：所述的第一种洛伦兹电机和第二种洛伦兹电机的外形呈方形结构。