[发明专利]具有气体导引装置的光罩盒

说明书

技术领域

本发明是有关于一种光罩盒，特别是指一种具有气体导引装置的光罩盒。

背景技术

近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术扮演重要的角色，只要是关于图形定义，皆需仰赖光学微影技术。光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩。利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅晶圆可曝光显示特定图案。由于任何附着于光罩上的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的质量劣化，用于产生图形的光罩必须保持绝对洁净，因此在一般的晶圆制程中，都提供无尘室的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前的无尘室也无法达到绝对无尘的状态。

现代的半导体制程皆利用抗污染的光罩盒进行光罩的保存与运输，以使光罩保持洁净。光罩盒在半导体制程中用于存放光罩，以利光罩在机台之间的搬运与传送，并隔绝光罩与大气的接触，避免光罩被杂质污染而产生变化。因此，在先进的半导体厂中，通常会要求光罩盒的洁净度要符合机械标准接口(Standard Mechanical Interface；SMIF)，也就是说保持洁净度在Class1以下。故，为了使光罩盒的洁净度符合机械标准接口，主要透过于光罩盒中充入高洁净气体。

目前光罩盒的底部具有至少一进气孔，所以可从进气孔填充一高洁净气体至光罩盒内，而高洁净气体自然流动于光罩盒内，大部分高洁净气体流动于光罩与光罩盒的底部间的空间，少部分的高洁净气体流动至光罩与光罩盒的顶部间的空间，导致高洁净气体于光罩盒内分布不均匀，使高洁净气体对光罩的清洁效果不佳，如此必须持续填充高洁净气体至光罩盒内，直到光罩清洁干净为止，进而增加高洁净气体的使用量，并导致充气高洁净气体至光罩盒内的效率不佳。

有鉴于上述问题，本发明提供一种具有气体导引装置的光罩盒，其具有一气体导引装置，气体导引装置导引由光罩盒的进气孔进入的一高洁净气体均匀分布于光罩与光罩盒的顶部间的空间及光罩与光罩盒的底部间的空间，并改善上述问题。

发明内容

本发明的目的，在于提供一种具有气体导引装置的光罩盒，其具有至少一气体导引装置，气体导引装置导引由光罩盒的至少一进气孔进入的一高洁净气体均匀分布于光罩的上下空间，有效提升高洁净气体清洁光罩的效率，进而减少高洁净气体的使用量，并提升高洁净气体的充填效率。

本发明提供一种具有气体导引装置的光罩盒，其包含：一底座，其具有至少一进气孔；一盖体，其罩设于该底座，并与该底座间具有一容置空间，该容置空间容置一光罩，该光罩分隔该容置空间为一第一气体流动空间及一第二气体流动空间；以及至少一气体导引装置，其设置于该底座，该气体导引装置具有一第一气体导引流道、至少一第二气体导引流道、至少一第三气体导引流道、一第一出气开口及一第二出气开口，该第一气体导引流道与该进气孔相连通，该第二气体导引流道及该第三气体导引流道与该第一气体导引流道相连通，该第一出气开口与该第二气体导引流道相连通，该第二出气开口与该第三气体导引流道相连通，该第一出气开口对应该第一气体流动空间，该第二出气开口对应该第二气体流动空间；其中该第一出气开口的开口面积小于该第二出气开口的开口面积，以使该第一气体流动空间内的一高洁净气体的流量与该第二气体流动空间内的该高洁净气体的流量相同。

实施本发明产生的有益效果是：本发明的具有气体导引装置的光罩盒，于光罩盒内设置至少一气体导引装置，透过气体导引装置导引由进气孔所流入的高洁净气体均匀分布于光罩的上下空间，使高洁净气体可均匀地对光罩清洁，有效提升高洁净气体对光罩的清洁效率，以维持光罩盒于高洁度的状态，避免光罩与外界的空气接触，同时减少高洁净气体的使用量，有效提升高洁净气体的充填效率。

附图说明

图1为本发明的第一实施例的光罩盒的外观图；

图2为本发明的第一实施例的光罩盒的组装图；

图3为本发明的第一实施例的光罩盒的剖面图；

图4A为本发明的第一实施例的气体导引装置的外观图；

图4B为本发明的第一实施例的气体导引装置的组装图；

图4C为本发明的图4A的A区域的局部放大图；

图5为本发明的第一实施例的光罩盒的使用状态图；

图6A为本发明的第二实施例的气体导引装置的外观图；

图6B为本发明的第二实施例的气体导引装置的组装图；

图7为本发明的第二实施例的光罩盒的使用状态图；

图8A为本发明的第三实施例的光罩盒的仰视图；

图8B为本发明的图8A的B区域的局部放大图；以及