[发明专利]陶瓷设备用的防污抛光装置

权利要求书

1.陶瓷设备用的防污抛光装置，包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头，其特征在于：所述的电机分为主电机和副电机，所述的转轴分为主轴和副轴，副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构，而主轴上部通过第一皮带及皮带轮由主电机驱动、副轴通过第二皮带及皮带轮由副电机驱动，副轴下部通过轴套与转盘固连联动，主轴下部则穿过转盘，其下端部通过第三皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头。

2.根据权利要求1所述的防污抛光装置，其特征是，每个磨头均通过磨头座安装于转盘下方，每个磨头的磨头座上均设有双皮带轮，双皮带轮上分别连接两条磨头皮带，这样，磨头皮带将相邻的磨头两两相互传动连接，将转盘下方的所有磨头等速同步联动。

3.根据权利要求1或2所述的防污抛光装置，其特征是主轴下端部的第三皮带及皮带轮只驱动转盘下方的一个磨头，该磨头为主动磨头，由该主动磨头通过磨头皮带带动其余磨头旋转。

4.根据权利要求1或2或3所述的防污抛光装置，其特征是机架上设有用于调整磨头上下位移的升降气缸。

5.根据权利要求1或2或3所述的防污抛光装置，其特征是装于转盘下方的磨头数量为4—10个。