[发明专利]利用光谱测量电弧阻抗的方法和系统

权利要求书

1.一种利用光谱测量电弧阻抗的方法，包括：

利用光谱仪捕获电弧通道通过透镜组件在光谱仪上形成的第一图像的至少一部分以获得第一谱线长度，所述第一谱线长度与第一图像的所述至少一部分的大小相关联；

通过比较第一谱线长度和参考谱线长度以计算电弧通道的至少一部分的直径；以及

通过利用计算出的电弧通道的至少一部分的直径以及电弧通道的至少一部分的电导率，计算电弧通道的至少一部分的阻抗。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一图像垂直于光谱仪上的图像捕获窗口的长边方向。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述参考谱线长度通过利用光谱仪捕获参考光源通过透镜组件在光谱仪上形成的第二图像来获得，其中第二图像位于光谱仪上的图像捕获窗口内。

4.如权利要求1所述的方法，还包括：

沿着平行于电弧通道的方向调整光谱仪的位置以至少获得电弧通道的不同位置处的直径。

5.如权利要求1所述的方法，还包括：

利用引起所述电弧的起始电流信号来触发光谱仪的操作。

6.如权利要求4或5所述的方法，还包括：

在将起始电流信号延迟预定时间之后触发光谱仪的操作，以至少获得不同时间点处的电弧通道的至少一部分的直径。

7.如权利要求1所述的方法，其中通过下式计算电弧通道的至少一部分的阻抗：

4σ×π×d2]]>

其中，σ为电弧通道的至少一部分的电导率，d为电弧通道的至少一部分的直径。

8.如权利要求7所述的方法，其中通过下式计算电弧通道的至少一部分的电导率：

σ=1.53*10-2*T3/2ln(1+1.4*Λm2)1/2]]>

其中Λ_m=1.24*107*1.05*T^3/2/n_e^1/2，T为电弧通道的电子温度，n_e为电弧通道的电子密度。