[发明专利]光伏太阳能电池片及其刻蚀方法

权利要求书

1.一种光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：

预处理步骤：对制作光伏太阳能电池片的基底进行预处理，去除所述基底的背面的磷硅玻璃层；

刻蚀步骤：将经过预处理之后的所述基底放入刻蚀槽，利用碱性溶液对所述基底的背面进行刻蚀。

2.根据权利要求1所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，所述预处理步骤包括，用氢氟酸溶液去除所述基底的背面的磷硅玻璃层。

3.根据权利要求2所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，所述氢氟酸溶液的质量分数3%至30%。

4.根据权利要求2所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，所述用氢氟酸溶液去除所述基底的背面的磷硅玻璃层的步骤之后，所述预处理步骤还包括，用去离子水对所述基底进行清洗。

5.根据权利要求1所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，所述碱性溶液为氢氧化钾溶液。

6.根据权利要求5所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，所述氢氧化钾溶液的质量分数为10%至50%。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，当利用所述碱性溶液进行刻蚀时，所述碱性溶液的温度为25摄氏度至70摄氏度。

8.根据权利要求2所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，去除所述基底的背面的磷硅玻璃层时，所述基底被支撑在所述刻蚀槽的滚轮上面，并且所述基底的扩散面高于所述氢氟酸溶液的液面；

所述利用碱性溶液对所述基底进行刻蚀时，利用所述滚轮携带药液的方式对所述基底的背面进行刻蚀。

9.根据权利要求1所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，所述利用碱性溶液对所述基底的背面进行刻蚀的步骤之后，还包括后处理步骤，所述后处理步骤包括：

用质量分数为1%至5%的氢氧化钾溶液对制作光伏太阳能电池片的所述基底进行上喷淋式清洗；

用去离子水对对所述基底进行清洗；

用质量分数为4%至10%的氢氟酸溶液对所述基底进行清洗；

用所述去离子水对所述基底进行清洗；

对所述光伏太阳能电池片进行烘干。

10.根据权利要求1至6中任一项所述的光伏太阳能电池片的刻蚀方法，其特征在于，所述基底为硅片。

11.一种光伏太阳能电池片，其特征在于，所述光伏太阳能电池片由权利要求1至10中任一项所述的光伏太阳能电池片刻蚀方法刻蚀而成。