[发明专利]整形装置与机箱的整形方法无效

专利信息
申请号: 201310141863.6 申请日: 2013-04-23
公开(公告)号: CN104096764A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 林世隆;陈大卫 申请(专利权)人: 纬创资通股份有限公司
主分类号: B21D37/10 分类号: B21D37/10;B21D1/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 董惠石
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 整形 装置 机箱 方法
【说明书】:

技术领域

发明是关于一种整形装置及整形方法,且特别是有关于一种用于机箱的整形装置与机箱的整形方法。

背景技术

近年来电脑伺服器的发展,从传统体积大又占空间的直立式伺服器,逐渐发展成将数台1U(U在伺服器领域中特指机架式伺服器的厚度,1U=4.445cm)高度的主机放置机柜统一管理的机架式伺服器(Rack Server)。

一般来说,机架式伺服器内的各伺服器单元是可滑动地设置于机柜内,基于此概念,可将整个装置伺服系统当成是一个大的机柜,而此机柜内可以安装多个可水平放置的伺服器单元的抽屉(即机箱)。这些抽屉内的伺服器单元彼此相互连接,借以增加产生伺服器的多工性,而达到高运算的效能。

再者,在考虑制造成本前提下,通常会将机柜或机箱予以轻量化,但为了提高空间利用率及伺服器的效能,却会尽可能地在每个机箱内摆满所需要的各种构件。如此一来,这些构件的重量将会对主机板与机箱造成相当大的负荷。通常而言,这些构件的重量会使得主机板与承载的机箱沿重力方向产生变形。惟机架式伺服器的机柜,因空间的考量,并不会在每个伺服器单元之间预留太大的空间。据此,当主机板上的构件需进行维护或发生故障而需进行维修时,便会发生因构件重量造成上层机箱朝重力方向变形,而干涉到下层机箱,造成下层机箱无法开启的情形。现有的解决方式之一为将机箱底面再额外加工成型内凸构造,惟如此一来将占用机箱内部空间而影响内部电子元件的摆设;现有解决方式之二是将机箱底面额外设置金属件来补强,惟如此一来将增加成本与铆接组合工序。

据此,如何在机箱的制作过程中提高其结构特征而得以克服上述变形的问题,便成为相关设计人员所欲解决的问题。

发明内容

本发明提供一种整形装置,具有简易且稳定的结构与较大的适用范围。

本发明的整形装置,用以对机箱整形。整形装置包括机体、第一模、第二模以及多个整形件。第一、第二模配置在机体的相对两侧。机体驱动第二模相对于第一模运动以移近或远离第一模。整形件可拆卸地组装在第一模与第二模的至少其中之一,以在第一模与第二模相互移近时抵压在机箱上以变形机箱。

本发明还提出一种机箱的整形方法。首先提供整形装置,其包括机体与设置在机体上的第一模与第二模。机体驱动第二模相对于第一模运动,以使第一模与第二模相互移近或远离。配置多个整形件在第一模与第二模的至少其中之一。配置并定位机箱在第一模。驱动第二模与第一模相互移近,以使整形件抵压机箱,而使机箱的至少一区域产生第一变形。

在本发明的一实施例中,上述的整形件为聚氨酯(polyurathane,PU)弹性体或橡胶。

在本发明的一实施例中,上述的整形装置包括配置在第一模的至少一整形件,与配置在第二模的至少一整形件。机箱的内表面被支撑于位于第一模的整形件的一支撑面上。位于第二模的整形件随第二模运动而使其抵压面抵压在机箱的外表面上,并使内表面与外表面产生相对变形,其中外表面与内表面彼此背对。

在本发明的一实施例中,上述位于第二模的整形件在外表面上或内表面上的正投影,不重叠于位于第一模的整形件在内表面上或外表面上的正投影。

在本发明的一实施例中,上述位于第二模的整形件在外表面上或内表面上的正投影,重叠于位于第一模的整形件在内表面上或外表面上的正投影,且抵压面互补于支撑面。

在本发明的一实施例中,上述的整形件具有不同的表面轮廓。

在本发明的一实施例中,上述的机体为冲压机。

在本发明的一实施例中,上述的部分整形件彼此叠置地配置于第一模或第二模。

在本发明的一实施例中,上述的机箱具有彼此背对的一内表面与一外表面,机箱的整形方法还包括:分别配置整形件在第一模与第二模,其中位于第一模的至少一整形件具有支撑面,位于第二模的至少一整形件具有抵压面。机箱内表面的第一区域支撑于支撑面上,位于第二模的整形件以抵压面抵压机箱外表面,以变形内表面的第二区域,其中第一区域不重叠于第二区域。

在本发明的一实施例中,上述的机箱具有彼此背对的一内表面与一外表面,机箱的整形方法还包括:分别配置整形件在第一模与第二模,其中位于第一模的至少一整形件具有支撑面,位于第二模的至少一整形件具有抵压面。机箱内表面的第一区域支撑于支撑面上,位于第二模的整形件以抵压面抵压机箱外表面,以变形内表面的第二区域,其中第一区域重叠于第二区域,且支撑面的表面轮廓互补于抵压面的表面轮廓。

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