[发明专利]一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法

权利要求书

1.一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是包括以下步骤：

a)将功能单体、交联剂、模板和致孔剂溶解于溶剂中，形成功能单体质量百分比为5％-30％、交联剂质量百分比为0.001％-1％、模板质量百分比为0.01％-10％，致孔剂质量百分比为0.01％-5％的混合物溶液，通过滴加稀盐酸和氢氧化钠溶液，调整该混合物溶液的pH值，或改变溶剂的配比，使功能单体和模板形成稳定的络合物，将该络合物放置在0℃-50℃的密闭容器中备用，用纳米激光粒度仪检测功能单体和模板形成的络合物在不同条件下的粒径大小；

b)根据步骤a)测试得到的功能单体和模板形成的络合物的粒径，选择合适的膜作为基体膜，用无水乙醇清洗干净膜表面和膜孔内的杂质，并用步骤a)所用的溶剂浸润，然后对步骤a)得到的混合物溶液进行过滤操作，检测透过液中模板的浓度，计算截留率，若截留率小于90％，更换更小孔径的膜，直至截留率大于等于90％，连续截留0.1-5h，同时记录截留过程中的通量变化；

c)将步骤b)得到的表层含功能单体和模板形成的络合物的膜用步骤a)所用的溶剂过滤0.1-2h，洗脱掉未形成络合物的功能单体，在氮气保护下辐射引发功能单体在膜表层聚合，得到含模板的聚合物接枝膜材料；

d)用步骤a)所用的溶剂清洗步骤c)得到的含模板的聚合物接枝膜材料，洗脱掉未反应的功能单体、交联剂和致孔剂，用洗脱液洗脱模板分子，清洗过程包括浸泡震荡洗脱和过滤洗脱，最后得到分子印迹聚合物膜。

2.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是所述的功能单体为丙烯酸及其衍生物、丙烯酰胺及其衍生物、苯乙烯及其衍生物、乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮、三甲基烯丙基氯化铵中的任意一种或两种以上混合物。

3.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是所述的交联剂为二乙烯基苯、N，N′-亚甲基双丙烯酰胺、二甲基丙烯酸乙二醇酯、3，5-丙烯酰胺基苯甲酸、二甲基丙烯酸乙二醇酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯中的任意一种或两种以上混合物。

4.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是所述的模板为多肽、酶或辅酶、核酸、蛋白质、糖类及其衍生物、氨基酸及其衍生物、药物、激素、杀虫剂、染料中的任意一种或两种以上混合物。

5.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是所述的基体膜为聚砜膜、聚丙烯腈膜、聚四氟乙烯膜、海藻酸钙水凝胶膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚醚砜膜、聚氯乙烯膜、醋酸纤维素膜中的任意一种，其膜的形态包括平板膜、中空纤维膜、卷式膜。

6.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是所述的溶剂为水、甲醇、乙醇、异丙醇、二氯甲烷、正己烷、苯、甲苯、二甲苯、四氯甲烷、氯仿、乙醚、环氧丙烷、醋酸乙酯、丙酮、乙腈和三乙醇胺中的任意一种或两种以上混合物。

7.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是所述的致孔剂为聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙二醇、聚丙烯酰胺、甲苯、液体石蜡、聚乙烯醇、聚维酮、明胶、水溶性淀粉中的任意一种或两种以上混合物。

8.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征所述的辐射引发的方式为自由基引发、紫外光引发、微波辐射引发、高能电子束引发、伽马射线引发、等离子体引发中的任意一种。

9.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是所述的洗脱液为磷酸盐缓冲溶液、Tris-HCl缓冲溶液、生理盐水、SDS-醋酸缓冲溶液、草酸缓冲溶液、硼酸缓冲溶液、盐酸乙醇混合溶液、醋酸乙醇混合溶液、盐酸甲醇混合溶液、甲醇、乙醇中的任意一种。

10.如权利要求1所述的一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是该分子印迹膜既保持了载体膜的较大通量和机械性能，又利于模板的洗脱和重结合，由于可控制形成稳定络合物的功能单体和模板分子的比例，得到的分子印迹膜印迹效率较高，在化工分离、固相萃取、膜传感器等领域有良好的应用前景。