[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括：

真空容器；

旋转台，其设于上述真空容器内，在载置圆形的基板的同时进行旋转，其中，在该旋转台的表面设有直径大于上述基板的直径的圆形的凹部，在该凹部内设有圆形的基板载置部，该基板载置部的直径小于该凹部的直径和上述基板的直径且设于比上述凹部的底部高的位置，该基板载置部的中心比上述凹部的中心向上述旋转台的外周部侧偏心；

处理气体供给部，其用于对上述基板供给处理气体；以及

真空排气机构，其用于对上述真空容器内进行真空排气。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

在上述基板因随着上述旋转台的旋转而产生的离心力而与上述凹部的内壁面相接触时，上述基板的周缘部自上述基板载置部突出的突出量在该基板的整个周向上处于1mm以上且小于3mm的范围。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

上述凹部的中心和上述基板载置部的中心分别以沿着上述旋转台的半径方向彼此分开的方式配置。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置还包括用于对上述基板载置部上的上述基板进行加热的加热机构，

上述处理气体用于对上述基板进行薄膜的成膜。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

上述基板载置部以如下方式设置：在上述旋转台旋转前以使上述凹部与上述基板之间的间隙在上述旋转台的中央部侧和上述旋转台的外周部侧相等的方式将该基板载置于上述基板载置部时的、该基板的周缘部的靠上述旋转台的中央部侧的部分自上述基板载置部突出的突出量等于在基板因随着上述旋转台的旋转而产生的离心力而与上述凹部的内壁面相接触时的、基板的周缘部的靠上述旋转台的外周部侧的部分自上述基板载置部突出的突出量。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

上述基板载置部以如下方式设置：使在上述基板因上述旋转台的旋转而产生的离心力而与上述凹部的内壁面相接触时的、上述基板的周缘部自上述基板载置部突出的突出量在上述旋转台的中央部侧和上述旋转台的外周部侧相等。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

上述基板载置部的高度以如下方式设置：在载置有上述基板时，使该基板的表面的高度与上述旋转台的表面的高度相等。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

上述基板载置部的大小以如下方式设定：在上述基板因随着上述旋转台的旋转而产生的离心力而与上述凹部的内壁面相接触时，上述基板的周缘部在整周上超出上述基板载置部。