[发明专利]一种低成本高立方织构含量镍基带的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310135732.7 申请日: 2013-04-18
公开(公告)号: CN103194704A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 陈兴品;杨梦娟;李龙飞;陈雪;刘庆 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: C22F1/10 分类号: C22F1/10
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 张先芸
地址: 400044 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 一种 低成本 立方 含量 基带 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,包括如下工艺步骤:

1) 将金属纯镍或镍钨合金以3%~10%的道次压下量进行冷轧,总压下量为80%~90%;

2) 将步骤1)制备的金属镍带在Ar+4%H2保护气氛下,以600℃~900℃进行再结晶退火,退火时间为30~60 min,获得初始立方织构含量的带材;

3) 将步骤2)制备的带材以3%~10%的道次压下量进行冷轧,总压下量为95%~98%;

4) 将步骤3)制备的带材在Ar+4%H2保护气氛下,以700℃~900℃进行再结晶退火,退火时间为30~60min,得到高立方织构含量的镍基带。

2.根据权利要求1所述低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,其特征在于,所述步骤1)和步骤3)中,所述冷轧采用单向轧制。

3.根据权利要求1所述低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,其特征在于,所述步骤1)和步骤3)中,所述冷轧的道次压下量控制在10%以下。

4.根据权利要求1所述低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,其特征在于,所述镍基带为NiW基带,其中W的原子百分含量为0%~7%。

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