[发明专利]一种低成本高立方织构含量镍基带的制备方法有效
申请号: | 201310135732.7 | 申请日: | 2013-04-18 |
公开(公告)号: | CN103194704A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 陈兴品;杨梦娟;李龙飞;陈雪;刘庆 | 申请(专利权)人: | 重庆大学 |
主分类号: | C22F1/10 | 分类号: | C22F1/10 |
代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 张先芸 |
地址: | 400044 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低成本 立方 含量 基带 制备 方法 | ||
1.一种低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,包括如下工艺步骤:
1) 将金属纯镍或镍钨合金以3%~10%的道次压下量进行冷轧,总压下量为80%~90%;
2) 将步骤1)制备的金属镍带在Ar+4%H2保护气氛下,以600℃~900℃进行再结晶退火,退火时间为30~60 min,获得初始立方织构含量的带材;
3) 将步骤2)制备的带材以3%~10%的道次压下量进行冷轧,总压下量为95%~98%;
4) 将步骤3)制备的带材在Ar+4%H2保护气氛下,以700℃~900℃进行再结晶退火,退火时间为30~60min,得到高立方织构含量的镍基带。
2.根据权利要求1所述低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,其特征在于,所述步骤1)和步骤3)中,所述冷轧采用单向轧制。
3.根据权利要求1所述低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,其特征在于,所述步骤1)和步骤3)中,所述冷轧的道次压下量控制在10%以下。
4.根据权利要求1所述低成本高立方织构含量镍基带的制备方法,其特征在于,所述镍基带为NiW基带,其中W的原子百分含量为0%~7%。
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