[发明专利]用于研磨或抛光玻璃基板的至少一条边缘的方法有效
申请号: | 201310131751.2 | 申请日: | 2009-10-30 |
公开(公告)号: | CN103223633A | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | J·W·布朗;B·R·拉杰 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | B24B9/10 | 分类号: | B24B9/10;B24B49/16;B24B47/10;B24B47/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 丁晓峰 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 研磨 抛光 玻璃 至少 一条 边缘 方法 | ||
1.一种用于研磨或抛光玻璃基板的至少一条边缘的方法,所述方法包括:
提供空气支承滑动系统,所述空气支承滑动系统构造成在加压空气薄层上沿预定轴线滑动,所述加压空气薄层提供零摩擦负载支承界面;
将研磨单元联接到所述空气支承滑动系统,所述研磨单元构造成在对准位置时从所述至少一条边缘去除预定量的材料;
控制所述空气支承滑动系统的运动,使得砂轮从非对准位置移动到对准位置;
施加垂直于所述至少一条边缘的预定的力,所述预定的力与所述预定的量成正比并小于会致使所述玻璃基板破裂的垂直力;以及
相对于研磨单元沿切向移动所述玻璃基板,以将从所述至少一条边缘去除所述预定量的材料,或相反所述研磨单元可相对于所述玻璃移动。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述预定的力基本在1N-6N的范围内,且所述预定的量基本在25微米-150微米的范围内。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述预定的力大致等于4N,且从所述边缘去除的预定的材料量大致等于100微米。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,从所述至少一条边缘去除的预定量材料的厚度是均匀的。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述研磨单元以7,500表面英尺/分钟的速度运行砂轮。
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