[发明专利]一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层

权利要求书

1.一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：涂料的成分包括氧化铈、氧化铝、Cr₂O₃ 、碳化硅、氧化铁、膨润土、可溶性硅酸盐。 

2.根据权利要求1所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：涂层的成分还包括氧化镧、氧化镝。 

3.根据权利要求2所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：涂层各成分所占的重量份数为，氧化铈15-20、氧化铝 3-5、Cr₂O₃ 5-10、碳化硅15-20、 氧化铁3-5、膨润土15-20、可溶性硅酸盐 40-50、氧化镧 1-3、氧化镝1-3。 

4.根据权利要求3所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：氧化铝、氧化铈、Cr₂O₃ 、碳化硅、氧化铁、氧化镧、氧化镝、膨润土、可溶性硅酸盐的粒度为100纳米-300纳米。 

5.根据权利要求1至4任何一项所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：层料各成分所占的重量份数为，氧化铈19、氧化铝4、Cr₂O₃ 8、碳化硅17、 氧化铁4、膨润土18、可溶性硅酸盐 45、氧化镧 2、氧化镝2。 

6.根据权利要求1至4任何一项所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：金属粉选用三氧化二铁，可溶性硅酸盐选用硅酸铝。