[发明专利]基于信号频率的二维自参考干涉对准系统及对准方法

权利要求书

1.一种基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，包括：

激光光源模块，用于提供所需的照明光束；

光学模块，用于将照明光束照射到对准标记上并进行扫描，形成光学信号；

电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；

软件模块，用于对光强信号进行处理，进一步获得对准信号；

其特征在于，所述对准标记为180度旋转对称结构的二维光栅标记，在所述对准标记的X方向上各级对准信号的对准频率和Y方向上对应的各级对准信号的对准频率不同，根据所述对准频率，可以从中提取出X向对准信号和Y向对准信号，从而实现两个方向的同时对准。

2.如权利要求1所述的基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，其特征在于，所述对准标记在X方向和Y方向上均为周期性结构。

3.如权利要求2所述的基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，其特征在于，所述对准标记在X方向和Y方向的线宽相同，在X方向和Y方向上的标记扫描速度不同。

4.如权利要求2所述的基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，其特征在于，所述对准标记在X方向和Y方向的线宽不同，在X方向和Y方向上的标记扫描速度相同。

5.如权利要求2所述的基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，其特征在于，所述对准标记在X方向和Y方向的线宽不同，在X方向和Y方向上的标记扫描速度不同。

6.如权利要求3或5所述的基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，其特征在于，所述二维光栅标记在X方向上的长度大于在Y方向上的长度，X方向上的标记扫描速度大于Y方向上的扫描速度。

7.如权利要求1所述的基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，其特征在于，所述用于对准的各级对准信号仅为奇次级对准信号。

8.如权利要求1所述的基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，其特征在于，所述软件模块通过信号处理的方法，分离出同一通道中的X向各级对准信号和Y向各级对准信号。

9.基于权利要求1所述的信号频率的二维自参考干涉对准系统的对准方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）光学模块对对准标记衍射光束进行光学处理，形成光学信号；

（2）电子采集模块处理所述光学信号，获得光强信号；

（3）软件模块处理所述光强信号，结合工件台位置数据获得所述对准标记在X向和Y向的各级对准信号；

（4）拟合处理，获得各级次信号的一系列峰值位置，进一步确定所述对准标记位置。