[发明专利]记录装置、记录方法和记录介质有效

专利信息
申请号: 201310130013.6 申请日: 2013-04-15
公开(公告)号: CN103377663B 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 入山利久 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G11B7/007 分类号: G11B7/007;G11B7/1267
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 余刚,吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 装置 方法 介质
【权利要求书】:

1.一种记录装置,包括:

记录单元,通过对记录介质执行激光照射来执行对各个层的记录操作,其中,所述记录介质具有(n+1)或更多个层作为记录层,并且其中,各个层的测试写入区域形成在至少n个连续层之间并且在从激光入射表面侧看时所述测试写入区域彼此不重叠的位置;以及

控制器,在包括用于激光功率调节的测试写入的所述记录操作中,将所述n个连续层设置为记录目标层,并且使得所述记录单元对所述n个记录目标层执行所述记录操作,

其中,n≥2;

其中,当所述记录操作对层的使用超过所述n个记录目标层进行到所述激光入射表面侧的层时,所述控制器将当从所述激光入射表面侧看时位于所述记录目标层中最深的层设置为不可记录的层,并将包括所述记录进行到的层的所述n个连续层设置为新的记录目标层。

2.根据权利要求1所述的记录装置,

其中,所述控制器使得所述记录单元执行所述记录操作,其中,以从当从所述激光入射表面侧看时在深侧的层开始的顺序来使用层。

3.根据权利要求1所述的记录装置,

其中,所述控制器将可记录的层中的包括当从所述激光入射表面侧看时位置最深的层的所述n个连续层设置为所述记录目标层,以及

其中,所述控制器使得所述记录单元执行所述记录操作,其中,以从相对于所述n个记录目标层在深侧的层开始的顺序来使用层。

4.根据权利要求1所述的记录装置,

其中,在所述记录操作对层的使用超过所述n个记录目标层进行到所述激光入射表面侧的层的状态下,

当对于当从所述激光入射表面看时位于包括所述记录进行到的层的所述n个连续层的深侧的层没有获得激光功率调节结果时,所述控制器将位于所述深侧的层设置为不可记录的层,并且将包括所述记录进行到的层的所述n个连续层设置为新的记录目标层,以及

当对于当从所述激光入射表面看时位于包括所述记录进行到的层的所述n个连续层的深侧的层获得了所述激光功率调节结果时,所述控制器将从位于所述深侧的层到所述记录进行到的层的(n+1)或更多个连续层设置为新的记录目标层。

5.根据权利要求4所述的记录装置,

其中,在将(n+1)或更多个连续层设置为所述记录目标层时,在后续执行的记录介质排出或者断开向所述装置供电的期间,所述控制器执行处理,以将当从所述激光入射表面侧看时比前侧的所述n个记录目标层位置更深的所述记录目标层设置为不可记录的层。

6.一种用于记录介质的记录方法,所述记录介质具有(n+1)或更多个层作为记录层,并且其中,各个层的测试写入区域形成在至少n个连续层之间并且在从激光入射表面侧看时所述测试写入区域彼此不重叠的位置,所述记录方法包括:

在将所述n个连续层设置为记录目标层的状态下,对所述n个记录目标层执行包括用于激光功率调节的测试写入的通过激光照射的记录操作,

其中,n≥2;

其中,当所述记录操作对层的使用超过所述n个记录目标层进行到所述激光入射表面侧的层时,控制器将当从所述激光入射表面侧看时位于所述记录目标层中最深的层设置为不可记录的层,并将包括所述记录进行到的层的所述n个连续层设置为新的记录目标层。

7.根据权利要求6所述的记录方法,

其中,在执行所述记录操作时,以从当从所述激光入射表面侧看时在深侧的层开始的顺序来使用层。

8.根据权利要求6所述的记录方法,

其中,可记录的层中的包括当从所述激光入射表面侧看时位置最深的层的所述n个连续层被设置为所述记录目标层,以及

其中,在执行所述记录操作时,以从相对于所述n个记录目标层在深侧的层开始的顺序来使用层。

9.一种记录介质,其中,在包括用于激光功率调节的测试写入的记录操作中,对记录层中作为记录目标层的n个连续层执行记录,所述记录介质包括:

(n+1)或更多个层,

其中,在各个层中设置有测试写入区域,

其中,各个层的所述测试写入区域形成在至少n个连续层之间并且在当从激光入射表面侧看时所述写入测试区彼此不重叠的位置,以及

其中,n≥2;

其中,当所述记录操作对层的使用超过所述n个记录目标层进行到所述激光入射表面侧的层时,控制器将当从所述激光入射表面侧看时位于所述记录目标层中最深的层设置为不可记录的层,并将包括所述记录进行到的层的所述n个连续层设置为新的记录目标层。

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