[发明专利]在等离子体室中检测电弧的方法和装置

权利要求书

1.一种用于检测等离子体室中的电弧的装置，包括：

电压传感器，所述电压传感器用于检测由电源供应到所述等离子体室的射频(RF)功率的电压值；

电流传感器，所述电流传感器用于检测所述RF功率的电流值；

电压和电流比例检测电路，所述电压和电流比例检测电路用于接收由所述电压传感器和所述电流传感器检测到的电压和电流值，以计算电压和电流比例；以及

控制器，所述控制器用于基于在所述电压和电流比例检测电路中计算的所述电压和电流比例确定电弧是否产生。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，当所述控制器确定在所述等离子体室中产生电弧时，所述控制器控制以减小来自所述电源的所述RF功率的供应。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，当所述控制器确定在所述等离子体室中产生电弧时，所述控制器控制以阻断来自所述电源的RF功率的供应。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，当所述控制器确定在所述等离子体室中产生电弧时，所述控制器首先控制减小来自所述电源的所述RF功率的供应，并且然后阻断所述功率的供应。

5.根据权利要求1所述的装置，所述装置进一步包括：

反射功率检测器，所述反射功率检测器用于检测从所述电源供应到所述等离子体室的所述RF功率的反射功率；

比较器电路，所述比较器电路用于将由所述反射功率检测器检测到的反射功率值与参考值比较；以及

逻辑电路，所述逻辑电路用于逻辑计算在所述比较器电路中比较的值以及来自所述电压和电流比例检测电路的所述电压和电流比例的值，并将得到的逻辑值提供到所述控制器。

6.根据权利要求5所述的装置，所述控制器基于由所述逻辑电路提供的所述逻辑值执行对所述功率的供应的控制。

7.一种用于检测等离子体室中的电弧的方法，包括步骤：

检测由电源供应给所述等离子体室的RF功率的电压值；

检测所述RF功率的电流值；

利用所检测到的电压和电流值计算电压和电流比例的值；以及

基于所计算的所述电压和电流比例的值确定在所述等离子体室中是否产生电弧。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，当确定电弧产生时，确定电弧是否产生的步骤进一步包括控制来自所述电源的所述RF功率的供应。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述RF功率的供应的控制包括减小所述RF功率的供应。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述RF功率的供应的控制包括阻断所述RF功率的供应。

11.根据权利要求8所述的方法，其中，所述RF功率的供应的控制包括减小并且然后阻断所述RF功率的供应。

12.根据权利要求7所述的方法，所述方法进一步包括：检测从所述电源供应到所述等离子体室的所述RF功率的反射功率值的步骤，以及基于所检测的反射功率值确定电弧是否产生的步骤。