[发明专利]一种光学增透膜及其制备方法和光学组件

权利要求书

1.一种光学增透膜，其特征在于，含有具有重复单元（1）和（2）的共聚物；所述重复单元（1）和（2）呈交联网络结构连接，且所述重复单元（1）和（2）的摩尔比为10:1～1:1；

所述共聚物通过以具有式（3）结构的第一单体和具有式（4）结构的第二单体在酸性或碱性催化剂催化作用下缩聚而获得；

（R¹O）₃Si-R²……………………….（3），

（R³O）₃-Si-Cm-Si-（R⁴O）₃……...（4）；

其中，R¹、R³、R⁴为烷基，R²为氢、烷基、或烷氧基，m为整数。

2.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述酸性催化剂包括盐酸、硝酸、硫酸或氢氟酸中一种或多种。

3.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述碱性催化剂为氨水。

4.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述m为1、2或3。

5.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述R¹、R³、R⁴为相同或不同的C1～C3的烷基。

6.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述R²为C1～C3的烷基或烷氧基。

7.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述R¹、R³、R⁴为甲基，R²为甲氧基、甲基或氢，m为1或2。

8.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述光学增透膜还含有中空微粒子。

9.如权利要求8所述的光学增透膜，其特征在于，所述中空微粒子为二氧化硅颗粒。

10.如权利要求9所述的光学增透膜，其特征在于，所述中空微粒子的重量为所述光学增透膜总量的1～10wt%。

11.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述光学增透膜的厚度为50～200nm。

12.如权利要求11所述的光学增透膜，其特征在于，所述光学增透膜的厚度为100～150nm。

13.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述缩聚的温度为60～100℃。

14.如权利要求1所述的光学增透膜，其特征在于，所述共聚物通过以下方法而制得：

将所述第一单体与水、有机溶剂和酸性或碱性催化剂的混合物在60～100℃下搅拌30～120分钟，

之后向所述混合物中添加所述第二单体，并持续搅拌15～120分钟，

所述第一单体和第二单体的摩尔比为10:1～1:1，且所述第一单体和第二单体的总量和与所述水的摩尔比为1:10～1:90。

15.如权利要求14所述的光学增透膜，其特征在于，使用酸性催化剂时，酸性催化剂在缩聚反应溶液中的氢离子浓度为0.2～3mol/L；使用碱性催化剂时，碱性催化剂在缩聚反应溶液中的氢氧根离子浓度为0.7～6.8mol/L。

16.如权利要求14所述的光学增透膜，其特征在于，所述有机溶剂在缩聚反应溶液中的含量大于等于25wt%，且小于等于90wt%。

17.一种光学组件，其特征在于，包括基材以及覆盖于所述基材表面的权利要求1～16中任一项所述的光学增透膜。

18.如权利要求17所述的光学组件，其特征在于，所述基材的材料包括玻璃、塑料、金属或陶瓷。