[发明专利]具有窄激光发射角度的多模垂直腔面发射激光器无效
| 申请号: | 201310109615.3 | 申请日: | 2013-03-29 |
| 公开(公告)号: | CN104078844A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
| 发明(设计)人: | 玉贯岳正 | 申请(专利权)人: | 新科实业有限公司 |
| 主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/187 |
| 代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫 |
| 地址: | 中国香港新界沙田香*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 激光 发射 角度 垂直 激光器 | ||
1.一种垂直腔面发射半导体激光器,包括:
一半导体多层膜,所述半导体包括一下分布式布拉格反射镜、一上分布式布拉格反射镜以及位于所述下分布式布拉格反射镜和所述上分布式布拉格反射镜之间的用以产生激光的活性层,所述激光从所述上分布式布拉格反射镜发出;以及
一保护膜,所述保护膜覆盖于所述上分布式布拉格反射镜之上以允许由所述上分布式布拉格反射镜发出的所述激光穿过;
所述保护膜具有一中心区和一边缘区,所述中心区包括位于所述保护膜的一凸点,所述凸点通过所述活性层的中点沿所述半导体多层膜的层体层叠方向向所述保护膜突出而形成,所述边缘区环绕所述中心区,所述中心区具有相对所述边缘区向所述激光发射的方向突出的一凸起,
其特征在于,所述垂直腔面发射半导体激光器满足下列关系式:
dp×n=(N/2)×λ,及
dc×n=dp×n+(1/4+M/2)×λ,
其中,
λ为真空中所述激光的波长;
dc为所述保护膜的中心区的膜厚度;
dp为所述保护膜的边缘区的膜厚度;
n为所述保护膜的折射率(其中空气折射率<所述保护膜的折射率n<所述上分布式布拉格反射镜的折射率);及
N为自然数,
M为零或自然数。
2.如权利要求1所述的垂直腔面发射半导体激光器,其特征在于:所述边缘区的dp×n为(1/2)λ,所述中心区的dc×n为(3/4)λ或(5/4)λ。
3.如权利要求1所述的垂直腔面发射半导体激光器,其特征在于:所述上分布式布拉格反射镜在面向所述活性层的一端面上设有一限流层,所述限流层包括用以限制产生所述激光的驱动电流的路径的一导电圆孔,所述中心区的直径为所述导电圆孔的直径的60%~120%。
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